炭化ケイ素の目的
炭化ケイ素(SiC)は、ケイ素と炭素の合成化合物で、卓越した硬度と熱特性で知られています。その主な用途は、物理的および化学的特性のユニークな組み合わせにより、様々な産業に及んでいます。
概要
炭化ケイ素の用途には、研磨剤、耐火物、セラミック、高出力半導体デバイスなどがある。高熱伝導性、低熱膨張性、優れた耐熱衝撃性などの特性により、高温・高ストレス環境での用途に最適です。
詳細説明
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研磨材と切削工具
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炭化ケイ素は非常に硬いため、切削工具や研磨材として優れた材料です。歴史的には、耐久性と鋭利なエッジが効果的な材料除去に不可欠なサンドペーパーや研削砥石に使用されてきました。高温用途:
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その高い耐熱性(1400℃まで強度を維持)から、SiCは工業炉の発熱体に使用されている。熱伝導率が高く、熱膨張率が低いため、熱安定性が重要な用途に適しています。
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セラミックおよび耐火物
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SiCセラミックスは、高温炉やキルンの耐火物ライニングに使用される。その高い化学的不活性と耐腐食性は、従来の材料ではすぐに劣化してしまうような環境に最適です。半導体用途:
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ワイドバンドギャップ半導体材料として、SiCはハイパワーおよび高周波デバイスに使用される。高ブレークダウン電界や高電子飽和速度などの特性により、特にパワーエレクトロニクスでは、シリコンやガリウムヒ素のような従来の半導体よりも優れています。
航空宇宙および自動車産業
SiC部品は、ポンプ、ロケットエンジン、自動車部品など、耐久性と過酷な条件への耐性が最も重要な部品に使用されています。密度が低く剛性が高いため、重量が重視される用途に最適です。