チューブを焼きなますプロセスには、金属を特定の温度に加熱することが含まれ、その温度で結晶構造がより流動化し、欠陥が自己修復できるようになります。次に、金属をその温度で一定期間保持し、制御された速度で冷却して、より延性が高く加工しやすい構造を実現します。焼鈍プロセスは、回復、再結晶、結晶粒成長の 3 つの段階に分かれており、これらの段階は温度の上昇に伴って発生します。このプロセスは通常、チャンバー炉を使用して実行されます。所望の材料特性を達成するには、正確な温度制御と冷却速度が不可欠です。
重要なポイントの説明:

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アニーリングの 3 段階:
- 回復: これは、粒子構造を変えることなく内部応力を緩和する温度まで金属を加熱する初期段階です。金属は軟化し始め、結晶構造内の転位が移動して再配列し始めます。
- 再結晶化: この段階では、金属が高温に加熱され、変形した粒子に代わって新しいひずみのない粒子が形成され始めます。これにより、硬度が低下し、延性が増加します。
- 粒子の成長 :金属を再結晶温度に長時間保持すると、結晶粒が成長し続け、強度が低下する可能性があります。時間と温度を制御することは、過度の粒子の成長を防ぐために重要です。
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金属の加熱:
- 金属を特定の温度まで加熱すると、結晶構造は流動性になりますが、固体状態のままになります。この温度は通常、金属の融点よりも低いですが、結晶格子内の原子の移動を可能にするのに十分な温度です。
- 正確な温度は、焼きなまされる金属の種類によって異なります。たとえば、鋼は通常 700°C ~ 900°C の温度でアニールされますが、銅はそれよりも低い温度、約 400°C ~ 700°C でアニールされます。
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開催時間:
- 所望の温度に到達した後、金属は保持時間として知られる特定の時間その温度に保持されます。これにより、金属の完全な再結晶化と結晶構造の欠陥の修復が可能になります。
- 保持時間は金属の種類、厚さ、求められる特性によって異なります。たとえば、より厚い材料では、材料全体を均一に加熱するためにより長い保持時間が必要になる場合があります。
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制御された冷却:
- 保持期間の後、金属は制御された速度で冷却されます。新たな応力の形成を防ぎ、金属をより延性のある均一な構造にするには、ゆっくりと冷却することが不可欠です。
- 冷却速度は、材料と目的の結果によって異なります。材料によっては、炉内での冷却(炉冷却)が好ましい場合もありますが、その他の材料では、空冷または制御された環境での冷却が必要な場合もあります。
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チャンバー炉の使用:
- チャンバー炉は、正確な温度制御と均一な加熱を実現できるため、アニーリングプロセスによく使用されます。炉により金属を均一に加熱できるため、材料全体にわたって一貫した結果が得られます。
- 炉は、望ましい材料特性を達成するために重要な冷却のための制御された環境も提供します。
これらの手順に従うことにより、焼きなましプロセスにより、金属管の延性が効果的に向上し、硬度が低下し、内部応力が緩和され、さらなる加工やさまざまな用途での使用にさらに適したものになります。
概要表:
ステージ | 説明 |
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回復 | 内部ストレスを軽減します。結晶構造内の転位が再配置されます。 |
再結晶化 | 新しいひずみのない結晶粒が形成され、硬度が低下し、延性が向上します。 |
粒子の成長 | 温度と時間が制御されていない場合、過度の粒子成長が発生する可能性があります。 |
加熱 | 流動性を得るために融点以下の特定の温度に加熱された金属。 |
開催時間 | 金属を一定温度に保持して再結晶化と欠陥修復を可能にします。 |
冷却 | 制御された冷却により新たな応力が防止され、延性のある構造が保証されます。 |
チャンバー炉 | 正確な温度制御と均一な加熱により、一貫した結果が得られます。 |
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