CNT製造における化学気相成長（CVD）法の利点は以下の通りです：
1.大量生産：CVDは、大規模なキラルCNTの調製に理想的な方法である。高い炭素源率で製造できるため、CNTの収率も高い。そのため、工業的規模の生産において費用対効果の高い方法となる。
2.高い製品純度：CVDは成長プロセスを高度に制御できるため、製品の純度が高い。これは、特定の特性や性質を持つCNTを必要とする用途にとって重要である。
3.キラル成長制御：CVDでは、CNTのキラル成長を精密に制御することができる。キラリティとは、CNT構造中の炭素原子の配置のことで、その特性に影響を与える。CNTのキラリティを制御できることは、その特性を特定の用途に合わせて調整する上で極めて重要である。
4.汎用性の高い成膜方法：CVDは化学反応に依存するため、非常に汎用性の高い成膜方法である。成膜プロセスのタイミングや制御の面で柔軟性がある。そのため、さまざまな産業における幅広い用途に適している。
5.超薄層製造：CVDは極薄の材料層を作ることができる。これは、薄い材料層を必要とする電気回路の製造などの用途に特に有利である。薄い層を正確に成膜できるため、CVDはこのような用途で好まれる手法となっている。
要約すると、CNT製造における化学気相成長法（CVD）の利点には、大規模生産、高い製品純度、キラル成長制御、多用途性、超薄層の製造能力などがある。これらの利点により、CVDは特定の特性や特徴を持つCNTを工業規模で生産するのに適した方法となっている。
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