ナノ粒子合成のための蒸着法には、物理的蒸着法（PVD）と化学的蒸着法（CVD）があり、原子スケールで固体表面に材料の薄層を蒸着させる。これらの方法は、ナノテクノロジーにおいて、特性を正確に制御しながら均一なコーティングやナノ構造を製造するために極めて重要である。
物理的気相成長法（PVD）：
- PVDは、蒸着する材料が固体状から始まり、真空条件下で気化されるプロセスである。このプロセスにはいくつかの重要なステップがあります：蒸発：
- 蒸発：粉末状の原料は、昇華するまで非常に高温に加熱され、固体から直接蒸気に変わります。輸送：
- 気化した材料は、真空チャンバーを通って基板に運ばれる。反応：
- 場合によっては、蒸着前の気相中で反応が起こることもある。蒸着：
蒸気が基板上で凝縮し、材料の薄膜または層が形成される。
スパッタコーティングやパルスレーザー蒸着（PLD）などのPVD技術は、ナノワイヤーやナノベルトの成長など、ナノテクノロジー分野での応用に不可欠な高純度で均一なコーティングを実現するために使用される。化学蒸着（CVD）：
CVDでは、気体状態の化学前駆体を使用する。このプロセスは反応室で行われ、ガスが反応して固体材料が形成され、基板上に堆積する。CVDは特に複雑な構造を作るのに有効で、制御することで特定の特性を持つ膜を作ることができる。PVDとCVDはどちらもボトムアップ成膜法と呼ばれ、膜は基板上に原子ごとに形成される。これらの方法は、ナノ粒子やナノ構造の合成において重要な、膜厚と均一性の精密な制御を可能にする。
応用と利点
