熱蒸着法は、物理蒸着法（PVD）で基板上に薄膜を形成するために用いられる方法である。このプロセスでは、高真空チャンバー内で材料を高温に加熱して蒸発させ、基板上に凝縮させて薄膜を形成する。
回答の要約
熱蒸着法はPVD技術の一つで、真空チャンバー内で材料を加熱して蒸発させ、基板上に凝縮させて薄膜を形成します。この方法は、太陽電池、薄膜トランジスタ、OLEDの金属接合層の形成などの用途に産業界で広く使用されています。
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詳しい説明プロセスのセットアップ
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プロセスは、タングステンやモリブデンなどの耐火性材料でできたるつぼやボートを入れたステンレス製の真空チャンバーから始まる。蒸着される材料（蒸発剤）は、このるつぼの中に入れられる。
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加熱と蒸発：
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材料は抵抗加熱によって非常に高い温度まで加熱され、気化する。この高温は、材料の蒸気圧に打ち勝つために必要であり、これによって材料を効率的に蒸発させることができる。輸送と蒸着
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蒸発した材料は蒸気を形成し、真空チャンバー内を移動して基板表面に堆積する。真空環境は、蒸気が空気分子と反応するのを防ぎ、クリーンな成膜を保証するために非常に重要です。
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凝縮と成膜
蒸気が基板に到達すると、凝縮して固体の薄膜を形成する。蒸発速度と蒸着時間を調整することで、膜の厚さと均一性をコントロールすることができる。応用例
