物理的気相成長法（PVD）は、金属を別の材料の薄膜でコーティングするために使用されるプロセスである。
この技術は、原子レベルでの材料の移動を伴う。
材料は凝縮相から気相に移動し、その後、基板上の薄膜として凝縮相に戻る。
PVDコーティングは通常、コーティングされる素材よりも硬く、耐久性に優れている。
これにより、下地金属の性能が向上します。
物理蒸着法を理解するための5つの重要ステップ
1.コーティング材料の気化
コーティング材料の蒸発、分離、スパッタリングが含まれる。
材料は気化するまで加熱され、固体から気体に変わる。
2.原子、分子、イオンの移動
気化後、原子、分子、イオンは発生源から基材まで低圧の領域を移動する。
このステップには、粒子の衝突後に起こる反応も含まれる。
3.基板への蒸着
気化した材料は基板表面で凝縮し、薄膜を形成する。
この蒸着は高温で行われ、基板は損傷を防ぐために低温に保たれる。
4.PVDの特徴
PVDの特徴は、他の方法では難しいコーティングができることである。
このようなコーティングには、高い硬度と耐摩耗性を持つセラミックまたは複合コーティングが含まれる。
5.PVDの利点
PVDは低電圧、高電流のアーク放電技術で、真空条件下で作動します。
そのため、環境汚染を最小限に抑えることができる。
この技術は、工具や金型の用途で特に有益です。
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