電子ビーム蒸着法による薄膜は、主にソーラーパネル、眼鏡、建築用ガラスなどの光学用途に使用されている。この方法は、高温耐性と耐摩耗性を持つ材料を製造できることから、航空宇宙産業や自動車産業にも応用されている。
電子ビーム蒸着プロセス：
電子ビーム蒸発法では、高電荷の電子ビームを使用してターゲット材料を蒸発させる。電子ビームは磁場を利用してターゲット材料に集束され、電子の砲撃によって、非常に融点の高い材料を含むさまざまな材料を蒸発させるのに十分な熱が発生する。蒸発した材料は基板上に堆積し、薄膜を形成する。このプロセスは、バックグラウンドガスが薄膜と化学反応するのを防ぐため、低チャンバー圧力下で行われる。用途と材料
電子ビーム蒸着では、金属や誘電体タイプの材料を含む多くの材料選択が可能です。この技術は汎用性が高く、リフトオフ、オーミック、絶縁、導電、光学用途など、さまざまな目的に使用できる。このプロセスは、4ポケット回転ポケットソースのようなソースによって促進される多層蒸着が可能なため、特に好まれている。
利点と制御
電子ビーム蒸着法の大きな利点の一つは、その制御性と再現性である。また、薄膜の性能特性を向上させるイオン源の使用も可能です。このプロセスは非常に制御しやすいため、材料を正確に蒸着することができ、これは特定の光学特性や環境要因に対する高い耐性を必要とする用途には極めて重要である。
