誘導炉の主周波数は通常50～400 kHzで、溶解速度、材料の種類、炉の容積などの要因によって変動する。溶融物の体積が小さい場合、周波数は高くなる傾向がある。周波数が低いほど金属への浸透が大きくなり、これは表皮深度と呼ばれる。
詳細説明
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周波数範囲とそれに影響する要因
- 50～400 kHz： 50～400 kHz：ほとんどの誘導炉の標準周波数範囲。周波数は、溶解される材料の種類や希望する溶解速度など、溶解プロセス特有の要件に基づいて選択されます。
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影響因子
- 溶解速度： より速い溶解には、必要な熱を素早く発生させるためにより高い周波数が必要になる場合があります。
- 材料の種類： 材料によって融点や熱的性質が異なるため、溶融に最適な周波数に影響を与える可能性がある。
- 炉の容積： 炉が大きいか、溶融する材料の体積が大きいほど、均一な加熱と浸透を確保するために低い周波数が必要になる場合がある。
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高い周波数と低い周波数
- 高い周波数： 高周波数: 一般的に、小規模の溶融や急速加熱が必要な場合に使用されます。高い周波数は迅速な発熱を可能にしますが、浸透性は低くなります。
- 低周波： 低周波数は、加熱速度が遅い反面、金属への浸透性が高いため、大容量の加熱や深く均一な加熱が必要な場合に重要です。
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肌の深さ：
- 定義： 表皮深度とは、導体の誘導電流が表面値の1/e（約37%）まで低下する深さを指す。誘導加熱では、周波数が低いほど表皮深度が深くなり、金属をより深く均一に加熱できる。
- 重要である： これは、大量の金属の溶解や厚い金属部品の処理など、均一な加熱が重要なプロセスにおいて特に重要である。
要約すると、誘導炉の主周波数は特定の用途要求に基づいて選択され、その典型的な範囲は 50 ～ 400 kHz です。溶融物の体積、材料の種類、要求される溶融速度などの要因が最適な周波数の選択に影響します。より深い浸透と均一な加熱には低い周波数が好まれ、より少量の急速加熱には高い周波数が使用されます。
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