知識 サンプルホルダーを使用するための温度と圧力の制限は何ですか?実験室の安全のための必須ガイド
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 day ago

サンプルホルダーを使用するための温度と圧力の制限は何ですか?実験室の安全のための必須ガイド

このサンプルホルダーの決定的な制限は、厳密に室温および標準大気圧での使用を意図していることです。そのような条件は、その構造的および機能的完全性を損なうため、高温または高圧の用途のために明示的に設計されていません。

理解すべき核となる原則は、このサンプルホルダーが標準的な条件のための精密機器であるということです。室温と周囲圧力の動作限界を超えると、その物理的特性が根本的に変化し、信頼性の低い実験結果や潜在的な損傷につながります。

動作原理の理解

このセクションでは、指定された制限がホルダーの性能を維持し、実験の妥当性を確保するために重要である理由を詳述します。

温度の影響

サンプルホルダーの材料特性は、室温に最適化されています。

高温は構造変化を誘発する可能性があり、これはその電気伝導率化学的安定性に直接影響します。これは熱実験のために設計されたコンポーネントではありません。

圧力の役割

同様に、このホルダーは標準大気圧付近での使用のために設計されています。

真空チャンバー内に慎重に配置することはできますが、物理的な変形や損傷を引き起こす可能性のある高圧環境に耐えるようには作られていません。

限界を超えた場合の結果

意図された動作条件からの逸脱は、機器とデータの両方に重大なリスクをもたらします。

構造的および材料の劣化

ホルダーを高温にさらすと、反り、変形、さらには材料の分解を引き起こす可能性があります。この損傷は不可逆的であることがよくあります。

ホルダーが湿度の高い、高温、または低温の環境で不適切に保管された場合、湿気、錆、性能低下が重大なリスクとなります。

実験精度の低下

熱によってホルダーの電気伝導率や化学的安定性が変化した場合、収集されたデータは信頼できません。ホルダー自体が実験における制御不能な変数となります。

過度の力や衝突による不適切な取り扱いによる物理的な損傷も、不適切なサンプル取り付けや不正確な結果につながる可能性があります。

取り扱いと保管のベストプラクティス

サンプルホルダーの寿命を延ばし、信頼性を確保するためには、適切な手入れが不可欠です。

正しい取り扱い手順

常に主要機器の標準操作手順に従ってください。ホルダーは優しく取り扱い、過度の力や衝撃を避けてください。

真空チャンバーで使用する場合は、ゆっくりと慎重に配置してください。急な動きは、サンプルを所定の位置からずらす気流を引き起こす可能性があります。

最適な保管条件

サンプルホルダーは、腐食性ガスがない乾燥した換気の良い環境に保管してください。

保管中の衝突や圧縮による物理的な損傷を防ぐため、鋭利なものや重いものから離して保管してください。

物理的仕様と互換性

適切な取り付けと使用のために、サンプルがホルダーの設計仕様に適合していることを確認してください。

サポートされるサンプル寸法

このホルダーは、直径20mm以上の円形サンプル、または辺の長さが15mm以上の正方形サンプル用に設計されています。

推奨サンプル厚さ

確実な固定と最適な性能のための理想的なサンプル厚さは、1mmから3mmの間です。指定された反応面積は1平方センチメートルです。

目的のための適切な選択

これらのガイドラインを使用して、サンプルホルダーが特定のアプリケーションに適していることを確認してください。

  • 主な焦点が標準的な電気的または化学的分析にある場合: すべての作業が室温で行われる限り、このホルダーはニーズに完全に適しています。
  • 主な焦点が熱分析または高圧実験にある場合: それらの条件のために特別に設計および定格された別のサンプルホルダーを入手する必要があります。
  • 主な焦点が真空蒸着にある場合: このホルダーを使用できますが、サンプルのずれを防ぐために配置中に細心の注意を払う必要があります。

結局のところ、ホルダーの設計上の制限を尊重することが、正確で再現性があり、信頼できる実験結果を達成するための鍵となります。

要約表:

仕様 制限
動作温度 室温のみ
動作圧力 標準大気圧
サンプル直径 20mm以上(円形)
サンプル辺の長さ 15mm以上(正方形)
理想的なサンプル厚さ 1mm - 3mm

KINTEKで研究室の精度と安全性を確保

お使いのサンプルホルダーが実験条件に正しく適合していると確信していますか?不適切な機器の使用は、信頼性の低いデータ、損傷した機器、および安全上のリスクにつながる可能性があります。

KINTEKは、お客様の研究が必要とする正確な実験機器と消耗品の提供を専門としています。標準分析であれ特殊な環境であれ、お客様の特定のアプリケーションに最適なサンプルホルダーの選択をお手伝いし、お客様の作業の完全性を保証します。

結果を妥協しないでください。専門家が適切なソリューションへご案内します。

今すぐチームに連絡して、パーソナライズされたコンサルテーションを受け、研究室が最高のパフォーマンスと安全性で稼働していることを確認してください。

関連製品

よくある質問

関連製品

無アルカリ・ホウアルミノケイ酸ガラス

無アルカリ・ホウアルミノケイ酸ガラス

ボロアルミノケイ酸ガラスは熱膨張に対する耐性が高いため、実験用ガラス器具や調理器具など、温度変化への耐性が必要な用途に適しています。

ラボおよび半導体プロセス用カスタムPTFEウェハホルダー

ラボおよび半導体プロセス用カスタムPTFEウェハホルダー

導電性ガラス、ウェハー、光学部品などのデリケートな基板を安全に取り扱い、加工するために専門的に設計された、高純度の特注PTFE(テフロン)ホルダーです。

ふるい振とう機

ふるい振とう機

正確な粒子分析のための精密試験ふるいとふるい分け機。ステンレス製、ISO準拠、20μm-125mmの範囲。今すぐ仕様書をご請求ください!

製薬、化粧品、食品研究開発のための高性能ラボ用ホモジナイザー

製薬、化粧品、食品研究開発のための高性能ラボ用ホモジナイザー

医薬品、化粧品、食品用真空乳化機。高剪断混合、真空脱気、スケーラブル1L-10L。今すぐ専門家のアドバイスを得る!

縦型加圧蒸気滅菌器(液晶表示自動タイプ)

縦型加圧蒸気滅菌器(液晶表示自動タイプ)

液晶ディスプレイ自動垂直滅菌器は、加熱システム、マイコン制御システム、過熱および過電圧保護システムで構成された、安全で信頼性の高い自動制御滅菌装置です。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

QuEChERSサンプル前処理用高効率セラミックビーズ

QuEChERSサンプル前処理用高効率セラミックビーズ

QuEChERSに最適なKINTEKのセラミックホモジナイジングビーズでサンプル前処理を強化し、コンタミのない正確な結果を保証します。今すぐ分析物の回収率を高めましょう!

1700℃ 制御雰囲気炉

1700℃ 制御雰囲気炉

KT-17A制御雰囲気炉:1700℃加熱、真空シール技術、PID温度制御、多用途TFTスマートタッチスクリーン制御装置、実験室および工業用。

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

割れ防止プレス金型

割れ防止プレス金型

割れ防止プレス金型は、高圧力と電気加熱を利用して、様々な形状やサイズのフィルムを成形するために設計された専用装置です。

ボタン電池ケース

ボタン電池ケース

ボタン電池はマイクロ電池とも呼ばれます。見た目は小さなボタン型電池です。通常、直径は大きくなり、厚さは薄くなります。

高真空システム用KF/ISOステンレス鋼真空フランジブラインドプレート

高真空システム用KF/ISOステンレス鋼真空フランジブラインドプレート

KF/ISOステンレス真空フランジブラインドプレートは、半導体、太陽電池、研究所の高真空システムに最適です。高品質な材料、効率的なシール、簡単な取り付け。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉は、高真空および高温条件下での金属材料の取り出し、ろう付け、焼結および脱ガスに適した縦型または寝室構造です。石英材料の脱水酸化処理にも適しています。

シングルパンチ電動タブレットプレス実験室用粉末タブレットマシン

シングルパンチ電動タブレットプレス実験室用粉末タブレットマシン

シングルパンチ電動錠剤機は、製薬、化学、食品、冶金などの企業の研究所に適した実験室規模の錠剤機です。

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレスでクリーンで正確なラミネーションを体験してください。ウェハーボンディング、薄膜変換、LCPラミネーションに最適です。今すぐご注文ください!

ラボ用プレート加硫プレス加硫ゴム機

ラボ用プレート加硫プレス加硫ゴム機

板加硫プレスはゴム製品の生産に使われる設備の一種で、主にゴム製品の加硫に使われる。加硫はゴム加工の重要なステップです。

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。


メッセージを残す