アルゴンガスは、このプロセスに理想的なそのユニークな特性により、スパッタリングに広く使用されている。
アルゴンガスはなぜスパッタリングに使われるのか？5つの主な理由を説明
1.高いスパッタリングレート
アルゴンはスパッタリング率が高い。つまり、効率よくエネルギーをターゲット材料に伝え、原子を放出させることができる。
この効率は、成膜プロセスを効果的かつ時間効率的に行うために極めて重要である。
アルゴンイオンは質量が大きいため、ターゲット材料に衝突した際に大きなエネルギーを与えることができ、効率的なスパッタリングにつながります。
2.不活性
アルゴンは化学的に不活性である。つまり、ほとんどの材料と反応しない。
この特性はスパッタリングに不可欠であり、プロセス中にターゲット材料や蒸着膜が化学的に変化したり汚染されたりすることがない。
アルゴンの不活性は、導電性や構造安定性といった薄膜の特性の完全性を維持するのに役立つ。
3.低価格と入手性
アルゴンは比較的安価で、高純度で広く入手可能です。
そのため、工業用途や研究用途において、費用対効果の高い選択肢となる。
様々な純度のアルゴンを入手できるため、基本的な用途から高度に特殊な用途まで、幅広いスパッタリングプロセスで使用することができる。
4.Ar+イオンの生成
磁場が存在すると、電子が集中して電子密度が高まる。
この高密度化により、電子とアルゴン原子の衝突が起こりやすくなり、正電荷を帯びたアルゴンイオン（Ar+）が形成される。
これらのイオンは負に帯電したターゲットに引き寄せられ、そこで高速で衝突してスパッタリングを起こす。
5.汎用性
アルゴンは、DC（直流）放電、RF（高周波）放電、AC（交流）放電など、さまざまなタイプのスパッタリングに使用できる。
この汎用性により、アルゴンは様々なセットアップや用途に適しています。
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