アルゴンはそのユニークな特性により、スパッタリングに広く使用されている。
なぜアルゴンガスがスパッタリングに使われるのか？- 5つの主な理由を説明
1.高いスパッタリングレート
アルゴンはスパッタリング率が高い。
これは、アルゴンイオンがターゲット表面に衝突した際に、ターゲット表面から材料を効率的に除去することを意味する。
この効率は、基板上に目的の材料を高い蒸着率で成膜するために非常に重要です。
2.不活性
アルゴンは不活性ガスです。
つまり、他の元素と反応しにくい。
この特性は、ターゲット材料の完全性と蒸着膜の純度が重要なスパッタリングプロセスでは不可欠です。
アルゴンが不活性であるため、スパッタリングプロセス中にターゲット材料が化学的に変化することがなく、成膜された膜の望ましい特性が維持される。
3.低価格と入手性
アルゴンは比較的安価で、高純度で広く入手可能である。
こ の た め 、産 業 用 お よ び 研 究 室 用 途 に お い て は 、コ ス ト 対 効 果 の あ る 選 択 肢 と な っ て い る 。
アルゴンの入手しやすさと手頃な価格は、大量のガスが必要とされることが多いスパッタリングでアルゴンが広く使用されている要因となっている。
4.プロセスの柔軟性
アルゴンベースのスパッタリングは、さまざまなタイプの放電を使用して行うことができる。
DC（直流）、RF（高周波）、AC（交流）などがある。
これにより、さまざまな材料や用途に柔軟に対応することができる。
5.品質管理
高純度アルゴンの使用は、ターゲット表面の不純物が基板に付着するのを防ぐために不可欠である。
これは、導電性など薄膜の特性を損なう可能性がある。
したがって、ターゲット材料の品質とスパッタリングプロセスで使用される装置も、高品質の成膜を保証するための重要な要素です。
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