CVDグラフェンの抵抗、特にシート抵抗は、銅基板上に成長させた場合、一般的に約350Ω/□であり、透明度は90％である。この値は、透明度98％でシート抵抗が約6 kΩのドープされていないグラフェンと比べて、透明度／シート抵抗比が大幅に改善されたことを意味する。
詳細な説明
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CVDグラフェンのシート抵抗:銅基板上に化学気相成長法（CVD）で作製したグラフェンのシート抵抗は350Ω/□と報告されている。シート抵抗は、導電性と透明性のバランスが重要な透明導電膜などの用途にとって重要なパラメータである。
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アンドープグラフェンとの比較:厚さ1atomの2次元結晶性同素体であるアンドープグラフェンは、シート抵抗が約6kΩ、透明度が98％である。銅上のCVDグラフェンと比べてこの高い抵抗値は、CVDプロセスによって、透明性を大きく損なうことなくグラフェンの導電性を高めることができることを示している。
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層厚の影響:グラフェンのシート抵抗は、層数を増やすほど低下する。仮に、各層が独立した挙動を示すとすれば、シート抵抗は一定に保たれ、多層膜の抵抗と同じになるはずである。このことは、CVDプロセスを最適化して層数を制御することで、特定の用途要件を満たすようにシート抵抗を調整できることを示唆している。
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応用と将来展望:CVDグラフェンは、センサー、タッチスクリーン、発熱体などさまざまな用途に用いられている。CVDグラフェンの取り扱い方法の改善や製造コストの削減が進めば、その用途はさらに拡大すると予想される。大きな表面積と良好な電気特性を持つグラフェンを製造できることから、CVDは工業用途にとって魅力的な方法である。
要約すると、CVDグラフェンの抵抗、特にシート抵抗は、ドープしていないグラフェンの抵抗よりも著しく低いため、透明導電用途に有望な材料である。層数を制御することでシート抵抗を調整できることと、CVD技術の継続的な向上が、CVDグラフェンをさまざまな技術用途に採用する原動力となっている。
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