PACVD（Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition）コーティングは、プラズマによって促進される気相中の化学反応によって、比較的低温で基板上に薄膜を成膜するプロセスです。
この方法は、PVD（物理的気相成長法）とCVD（化学的気相成長法）の両方の利点を兼ね備えています。
5つの主要ステップ
1.準備
コーティング・プロセスを開始する前に、金属、セラミック、その他の材料である基板を徹底的に洗浄し、真空チャンバー内に置きます。
この環境は、汚染を防ぎ、コーティング材料の制御された蒸着を可能にするため、非常に重要である。
2.プラズマによる活性化
PACVDプロセスでは、プラズマを使用して前駆体ガスを活性化する。
この活性化には、電界の印加によるガス分子の反応種への解離が含まれる。
プラズマは、RF（高周波）やマイクロ波励起など、さまざまな方法で発生させることができる。
プラズマの使用により、従来のCVDよりも低温での成膜が可能になり、温度に敏感な基板に適している。
3.蒸着
ガスが活性化されると、化学反応が起こり、基板上に目的の薄膜が形成される。
この反応により、通常、数ナノメートルからマイクロメートルの厚さの層が成膜される。
プラズマの性質と前駆体ガスの選択は、硬度、耐摩耗性、基材への密着性など、蒸着膜の特性を決定する。
4.品質管理
成膜後、厳しい検査を受けます。
塗膜の厚さ測定、硬度試験、耐久性や基材との密着性の評価などである。
これらの検査により、塗膜がその用途に必要な仕様を満たしていることが確認されます。
5.仕上げ
用途によっては、コーティングされた基材にさらに仕上げ加工を施すこともある。
これには、表面仕上げを向上させるための研磨や、コーティングの性能を向上させるための特殊処理が含まれる。
例えば、DLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングの場合、トライボロジー特性を最適化し、エンジン部品や切削工具などの用途に適したものにするために、追加の処理が施されることがあります。
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