知識 マッフル炉の最低温度範囲は?
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 2 weeks ago

マッフル炉の最低温度範囲は?

マッフル炉は様々な科学的・工業的用途に不可欠なツールです。マッフル炉は室温から数百℃までの広い温度範囲を提供します。この柔軟性により、炉は様々な実験やプロセスに使用することができます。

マッフル炉の最低温度範囲は? (4つのポイント)

マッフル炉の最低温度範囲は?

1.開始温度範囲

マッフル炉は室温(約20~25℃)からスタートするように設計されています。この低い開始温度は、様々な初期条件に対応し、実験やプロセスの最初から正確な温度制御を可能にするため、極めて重要です。

2.調整可能な温度範囲

炉には数百度に達する調節可能な温度設定が装備されています。この機能は様々な実験要求に適応するために不可欠です。例えば、滅菌や乾燥のために100°C (212°F) という低い温度が要求される場合もあれば、脱炭酸や焼結などのより集中的なプロセスには最高600°C (1112°F) の温度が要求される場合もあります。

3.安全性とメンテナンス

マッフル炉の初期使用または長期停止後の再稼動には、200°Cから600°C (392°Fから1112°F) の温度で4時間のベーキング工程が必要です。この工程は電熱エレメントを長持ちさせ、炉の完全性を維持するために非常に重要です。また、損傷を防ぎ安全を確保するために、炉を規定の温度範囲内で運転することの重要性も強調されています。

4.操作の柔軟性

低い開始点から数百℃までの温度調整が可能なため、操作の柔軟性が大幅に向上します。この温度範囲により、研究者や技術者は複数の専用装置を必要とすることなく、多様な実験やプロセスを実施することができ、研究室のスペースやリソースを最適化することができます。

専門家にご相談ください。

KINTEK SOLUTIONのマッフル炉の比類ない多様性をご覧ください。 室温から摂氏数百度までの幅広い温度範囲を提供する当社の最先端機器は、精度と性能のために調整されています。穏やかな滅菌から強力な焼成まで、当社のマッフル炉はラボのプロセスを合理化し、研究の可能性を最大限に引き出します。KINTEK SOLUTION - 先端技術と科学的精度の融合 - で、お客様の実験をより高度なものにしましょう。 お客様のニーズに最適なマッフル炉をお探しいたします!

関連製品

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉でラボをグレードアップ。日本製アルミナファイバーとモリブデンコイルにより、高速で正確な加熱を実現します。TFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラミングとデータ解析が容易です。ご注文はこちらから!

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉は、高真空および高温条件下での金属材料の取り出し、ろう付け、焼結および脱ガスに適した縦型または寝室構造です。石英材料の脱水酸化処理にも適しています。

セラミックファイバーライナー付き真空炉

セラミックファイバーライナー付き真空炉

多結晶セラミックファイバー断熱ライナーを備えた真空炉で、優れた断熱性と均一な温度場を実現。最高使用温度は1200℃または1700℃から選択でき、高真空性能と精密な温度制御が可能です。

二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体

二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体

二珪化モリブデン(MoSi2)発熱体の高温耐性をご覧ください。独自の耐酸化性と安定した抵抗値。そのメリットを今すぐご確認ください!

2200℃タングステン真空炉

2200℃タングステン真空炉

当社のタングステン真空炉で究極の高融点金属炉を体験してください。 2200℃まで到達可能で、先端セラミックスや高融点金属の焼結に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

マルチゾーン管状炉

マルチゾーン管状炉

当社のマルチゾーン管状炉を使用して、正確で効率的な熱試験を体験してください。独立した加熱ゾーンと温度センサーにより、制御された高温勾配加熱フィールドが可能になります。高度な熱分析を今すぐ注文してください。

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉を使用して、正確な歯科結果を取得します。自動温度校正、低騒音トレイ、タッチスクリーン操作。今すぐ注文!

モリブデン真空炉

モリブデン真空炉

遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉の利点をご覧ください!高温高圧下で緻密な耐火金属・化合物、セラミックス、複合材料を製造します。

高温脱脂・仮焼結炉

高温脱脂・仮焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスを備えたセラミック材料用の高温脱バインダおよび仮焼結炉。 MLCCやNFCなどの電子部品に最適です。

ボトムリフト炉

ボトムリフト炉

ボトムリフティング炉を使用することで、温度均一性に優れたバッチを効率的に生産できます。2つの電動昇降ステージと1600℃までの高度な温度制御が特徴です。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉は、金属およびセラミック焼結における高温ホットプレス用途向けに設計されています。その高度な機能により、正確な温度制御、信頼性の高い圧力維持、シームレスな操作のための堅牢な設計が保証されます。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

KT-CTF14 マルチ加熱ゾーン CVD 炉 - 高度なアプリケーション向けの正確な温度制御とガス流量。最高温度1200℃、4チャンネルMFC質量流量計、7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを搭載。

水素雰囲気炉

水素雰囲気炉

KT-AH 水素雰囲気炉 - 安全機能、二重シェル設計、省エネ効率を備えた焼結/アニーリング用誘導ガス炉です。研究室や産業での使用に最適です。

1200℃ 制御雰囲気炉

1200℃ 制御雰囲気炉

KT-12Aプロ制御雰囲気炉は、高精度で頑丈な真空チャンバー、多用途でスマートなタッチスクリーン制御装置、最高1200℃までの優れた温度均一性を備えています。実験室および工業用途に最適です。


メッセージを残す