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PVD（物理蒸着）コーティングの厚さは、通常0.25～5ミクロンです。この薄さは、外観を大きく変えることなく、平滑性、硬度、耐食性、耐荷重性などの特性を向上させるために非常に重要です。装飾的な用途の場合、コーティングは0.2～0.5ミクロンと薄くても何年も耐久性を保つことができます。より要求の厳しい用途では、厚さを1ミクロン以上にする必要があるかもしれません。また、基材は応力がかかった状態で薄いコーティングを支えるために、より硬いものでなければなりません。具体的な膜厚は、被膜の用途と、被膜が直面する条件によって決まります。
KINTEK SOLUTIONで、お客様のニーズに合わせたPVDコーティングの精度と汎用性をご確認ください。長持ちする装飾用途向けの繊細な0.2ミクロンから、厳しい条件下での使用に耐える堅牢な5ミクロンまで、さまざまな厚さのオプションをご用意しています。今すぐKINTEKのアドバンテージをご体験ください！
CVD ダイヤモンドコーティング: 切削工具、摩擦、音響用途向けの優れた熱伝導性、結晶品質、接着力
PECVD コーティング装置でコーティング プロセスをアップグレードします。 LED、パワー半導体、MEMSなどに最適です。低温で高品質の固体膜を堆積します。
RF-PECVD は、「Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition」の頭字語です。ゲルマニウムおよびシリコン基板上にDLC（ダイヤモンドライクカーボン膜）を成膜します。 3～12umの赤外線波長範囲で利用されます。
ナノダイヤモンド複合コーティング引抜ダイスは、超硬合金（WC-Co）を基材とし、化学気相法（略してCVD法）を用いて従来のダイヤモンドとナノダイヤモンド複合コーティングを金型の内孔表面にコーティングする。
CVD ダイヤモンドドレッサーブランクの比類のないパフォーマンス、つまり高い熱伝導率、優れた耐摩耗性、および方向の独立性を体験してください。
CVDダイヤモンド伸線ダイスブランク：硬度、耐摩耗性に優れ、様々な材質の伸線に適用可能。グラファイト加工などの摩耗加工用途に最適です。
精密な薄膜成膜を実現する傾斜回転式PECVD炉を紹介します。自動マッチングソース、PID プログラマブル温度制御、高精度 MFC 質量流量計制御をお楽しみください。安全機能を内蔵しているので安心です。
915MHz MPCVD ダイヤモンドマシンとその多結晶効果成長、最大面積は 8 インチに達し、単結晶の最大有効成長面積は 5 インチに達します。この装置は主に、成長にマイクロ波プラズマによるエネルギーを必要とする大型多結晶ダイヤモンド膜の製造、長尺単結晶ダイヤモンドの成長、高品質グラフェンの低温成長などに使用されます。
熱管理用の CVD ダイヤモンド: 熱伝導率が最大 2000 W/mK の高品質ダイヤモンドで、ヒート スプレッダー、レーザー ダイオード、GaN on Diamond (GOD) アプリケーションに最適です。
CVD ホウ素ドープ ダイヤモンド: エレクトロニクス、光学、センシング、および量子技術の用途に合わせて調整された導電性、光学的透明性、優れた熱特性を可能にする多用途の材料です。
赤外線透過コーティングサファイアシート/サファイア基板/サファイアウィンドウ
サファイアから作られた基板は、比類のない化学的、光学的、物理的特性を誇ります。熱衝撃、高温、砂の浸食、水に対する優れた耐性が際立っています。
CVD ダイヤモンド切削工具: 非鉄材料、セラミックス、複合材料加工用の優れた耐摩耗性、低摩擦、高熱伝導性
電気化学実験用の耐食性コーティング評価用電解セルをお探しですか?当社のセルは、完全な仕様、優れた密閉性、高品質の素材、安全性、耐久性を誇ります。さらに、ニーズに合わせて簡単にカスタマイズできます。
薄膜を堆積するための容器。アルミニウムコーティングされたセラミックボディを備えており、熱効率と耐薬品性が向上しています。さまざまな用途に適しています。
