物理的気相成長法（PVD）とは、金属表面に別の材料の薄膜をコーティングするプロセスです。
このプロセスは、金属の表面特性を向上させ、より硬く耐久性のあるものにします。
PVDでは、真空環境で固体材料を気化させます。
気化した材料は、次に基材上に蒸着される。
コーティングは厚い層ではなく、ミクロン単位で結合する微細な積み重ねである。
この結合により、金属表面の物理的特性が変化する。
PVDは、コンピューター・チップ、光学機器、ソーラー・パネル、医療機器など、さまざまな産業や製品で広く利用されている。
より滑らかな表面を作り出し、粗さを減らすことで、性能特性を向上させます。
物理蒸着法を理解するための4つのポイント
1.表面特性の向上
PVDは金属表面を硬くし、耐久性を向上させる。
2.真空環境
真空中で固体材料を気化させるプロセス。
3.薄膜蒸着
気化された材料は、ミクロンレベルの薄い層で基板上に蒸着される。
4.幅広い産業への応用
PVDは、コンピューターチップ、光学機器、ソーラーパネル、医療機器の性能向上のために使用されています。
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