本質的に、スパッタリングターゲットは薄膜を作成するために使用される特殊な材料源です。これらのターゲットは主に、材料組成（何でできているか）と物理的形状（その形）によって分類され、材料品質が性能を決定する重要な第3の側面となります。
必要となるスパッタリングターゲットの「種類」は、単一の特性によって定義されるものではありません。それは、材料組成、物理的形状、微細構造品質の特定の組み合わせであり、これらすべてが、成膜装置と最終的な薄膜に求められる特性に正確に一致している必要があります。
材料組成による分類
スパッタリングターゲットを分類する最も基本的な方法は、それが堆積させる材料によるものです。この選択は、得られるコーティングの化学的および物理的特性を直接的に決定します。
純金属ターゲット
これらは、アルミニウム（Al）、銅（Cu）、チタン（Ti）、または金（Au）などの単一の金属元素から作られたターゲットです。半導体配線から反射層の作成に至るまで、幅広い用途で使用されています。
合金ターゲット
合金ターゲットは、純粋な金属では得られない特定の特性を達成するために、2つ以上の金属を混合して構成されています。一般的な例は、電子部品の抵抗膜堆積に使用されるニッケル・クロム（NiCr）です。
化合物（セラミック）ターゲット
これらのターゲットは、酸化物、窒化物、または炭化物などの化学化合物から作られています。例としては、絶縁層用の二酸化ケイ素（SiO₂）や、硬質で耐摩耗性のあるコーティング用の窒化チタン（TiN）が挙げられます。これらの材料をスパッタリングすることは、純粋な金属をスパッタリングするよりも複雑になる場合があります。
物理的形状による分類
ターゲットの形状、すなわちジオメトリは、それが取り付けられるスパッタリングシステム（カソード）の設計によって決定されます。
平面（フラット）ターゲット
これは最も一般的で単純な形状であり、単純なディスクまたは長方形のスラブに似ています。平面ターゲットは一般的に製造が容易でコストも低く、幅広い研究開発および生産システムで使用されています。
円筒形（ロータリー）ターゲット
大規模な大量生産で使用される円筒形ターゲットは、スパッタリングプロセス中に回転します。この回転により、より均一なエロージョン（消耗）が可能になり、材料利用率の向上、ターゲット寿命の延長、およびより安定した成膜プロセスにつながります。
その他の特殊な形状
一般的ではありませんが、一部のスパッタリング装置は、リング状ターゲットのような特定のジオメトリ用に設計されています。これらは製造の複雑さから高価になることが多く、装置に特化しています。
トレードオフの理解：品質と純度
単に材料と形状を選択するだけでは不十分です。ターゲット材料自体の品質は、高性能な薄膜を実現するための最も重要な要素であると言えます。同じ材料と形状の2つのターゲットでも、劇的に異なる結果をもたらす可能性があります。
純度の重要な役割
ターゲットの純度は、しばしば「ナインス」（例：99.99%または4N）で表され、汚染物質のレベルを決定します。半導体製造のようなデリケートな用途では、ターゲット内の微量な不純物でさえ、欠陥を引き起こし、最終デバイスの電気的性能を損なう可能性があります。
密度と結晶粒構造
高密度のターゲットと、均一で微細な結晶粒構造は不可欠です。空隙のある低密度のターゲットは、プロセス不安定性やアーク放電を引き起こす可能性があります。一貫した結晶粒サイズは、ターゲットが均一に消耗し、予測可能で再現性のある成膜速度につながることを保証します。
構造と接合（ボンディング）
スパッタリングターゲットは単なる塊状の材料ではありません。それらは通常、構造的サポートを提供し、プロセス中に発生する激しい熱を放散するための水冷チャネルを組み込んだ金属製のバッキングプレートに接合（ボンディング）されています。この接合の品質は、熱管理とターゲットの完全性にとって極めて重要です。
用途に応じた適切なターゲットの選択
あなたの選択は、性能要件と予算および装置の制約のバランスを取りながら、最終的な目標によって推進される必要があります。
- 研究開発が主な焦点の場合： 高純度の平面ターゲットは最も柔軟性を提供し、新しい材料やプロセスの実験に最適です。
- 大量の産業生産が主な焦点の場合： 円筒形（ロータリー）ターゲットは、優れた材料利用率、より長い稼働期間、およびより優れたプロセス安定性を提供し、初期コストの高さに見合う価値があります。
- 装飾的または保護的コーティングが主な焦点の場合： より低い純度仕様のターゲットを使用できる可能性があり、膜の美的または基本的な機能要件を損なうことなく材料コストを削減できます。
これらの明確な分類を理解することで、薄膜成膜プロセスを制御し最適化するために必要な正確な材料源を選択できるようになります。
要約表：
| 分類 | 主な種類 | 主な用途 |
|---|---|---|
| 材料組成 | 純金属（Al、Cu、Ti）、合金（NiCr）、化合物（SiO₂、TiN） | 堆積膜の化学的および物理的特性を定義する。 |
| 物理的形状 | 平面（ディスク/長方形）、円筒形（ロータリー）、特殊形状（リング） | 均一な消耗と材料利用率のためにスパッタリング装置の設計によって決定される。 |
| 材料品質 | 高純度（例：99.99%）、高密度、微細な結晶粒構造 | プロセス安定性、成膜速度、デリケートな用途における最終膜性能にとって極めて重要。 |
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