PVDコーティングは、物理蒸着コーティングとも呼ばれ、真空蒸着技術を使って基板の表面に材料の薄い層を塗布するプロセスです。
このプロセスでは、ターゲット材料を気化するまで加熱し、その蒸気をハードウェアの表面に向けます。
出来上がった膜の厚さは数ナノメートルから数マイクロメートルですが、耐摩耗性の向上、硬度の増加、美観の向上など、大きなメリットがあります。
PVDコーティングはどのように施されるのか？5つのステップ
1.PVDコーティングの概要
PVDプロセスには、主に熱蒸着、スパッタ蒸着、イオンプレーティングの3種類があります。
熱蒸着では、蒸着する材料を気化するまで加熱し、蒸気を基板上に凝縮させます。
スパッタ蒸着では、ターゲット材料に高エネルギーのイオンを照射して原子を放出させ、基板上に堆積させる。
イオンプレーティングでは、ターゲット材料はイオン化され、基板に向かって加速され、薄膜を形成する。
2.PVDコーティングの利点
PVDコーティングには、従来のコーティングと比較していくつかの利点がある。
硬度が高く、耐摩耗性に優れているため、耐久性が重視される用途に適しています。
また、化学的安定性が高いため、様々な環境下での耐食性が向上します。
PVDコーティングは、均一なコーティングカラーを幅広く調整できるため、製品の外観をカスタマイズすることが可能です。
さらに、PVDコーティングは基材との結合力が強く、様々な素材に適用できます。
3.PVDコーティングプロセス
PVDコーティングは、50～600℃の真空チャンバー内で行われる。
ターゲット材料から気化した原子は真空チャンバー内を移動し、コーティングされる対象物に埋め込まれる。
コーティングを確実に行うには、成膜中に対象物をチャンバー内に正しく配置するか、回転させる必要がある。
4.機械的、化学的、光学的特性
全体として、PVDコーティングは、優れた機械的、化学的、光学的特性を持つ薄膜の製造を可能にする、現代的で環境に優しいプロセスである。
表面硬度、低摩擦係数、耐食性、耐摩耗性が向上します。
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