知識 高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおける電圧パルスはどうあるべきか?(4つのキーファクター)
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 2 months ago

高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおける電圧パルスはどうあるべきか?(4つのキーファクター)

高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は、高いピーク電圧を短いパルスで印加する技術である。これらのパルスは通常非常に短く、50~200マイクロ秒持続する。パルスの周波数は約500Hzである。デューティ・サイクル(「オン」時間と「オフ」時間の比率)は通常10%未満である。これは、システムがほとんどの時間を「オフ」状態で過ごすことを意味する。

4つの主な要因

高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおける電圧パルスはどうあるべきか?(4つのキーファクター)

1.高いピーク電圧

HiPIMSの印加電圧はピーク値が高いのが特徴である。この高電圧は、効率的なスパッタリングに必要な高電力密度を達成するために不可欠である。正確な電圧は、具体的なセットアップや使用する材料によって異なります。しかし、一般的には100Vから3kVの範囲内である。

2.短いパルス時間

HiPIMSのパルスは非常に短く、通常は50~200マイクロ秒である。この短い持続時間により、短時間にエネルギーを集中させることができる。これにより、スパッタされた粒子のイオン化が促進され、連続的なDCスパッタリングに比べて高いイオン化度が得られる。この高度なイオン化は、膜質と密着性の向上に有益である。

3.低周波数とデューティサイクル

HiPIMSのパルスの周波数は約500Hzと比較的低く、デューティサイクルは10%未満である。デューティサイクルが低いということは、システムがほとんどの時間を「オフ」状態で過ごすことを意味する。これにより、パルス間の冷却と安定化が可能になる。この断続的な動作は、温度を制御し、ターゲットや基板への熱損傷を防ぐのに役立つ。

4.動作モード

パルスの持続時間と周波数によって、HiPIMSシステムは電圧モードまたは電流モードのいずれかで動作する。電圧モードでは、短いパルスと高い周波数が一般的で、イオンを加速するための急速な電圧変化に重点が置かれます。より長いパルスとより低い周波数で一般的な電流モードでは、システムはスパッタリングプロセスを維持するために一定の電流を維持します。

さらに詳しく、当社の専門家にご相談ください。

KINTEK SOLUTIONの最先端HiPIMSテクノロジーで薄膜形成能力を向上させましょう。 高ピーク電圧、最適化されたパルス持続時間、革新的な低周波動作の精度を体験してください。成膜速度の向上だけでなく、優れた膜質と熱制御を保証する究極のスパッタリング性能をお届けします。KINTEK SOLUTIONがお客様のラボにどのようにトップクラスのHiPIMSシステムを提供できるかをご覧ください!

関連製品

真空浮上 誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空浮上 誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空浮遊溶解炉で精密な溶解を体験してください。効率的な製錬のための高度な技術により、高融点金属または合金に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉のメリットを発見してください。均一加熱、低コスト、環境に優しい。

真空誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空誘導溶解炉で正確な合金組成を得る。航空宇宙、原子力、電子産業に最適です。金属と合金の効果的な製錬と鋳造のために今すぐご注文ください。

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

当社の真空溶融紡糸システムを使用して、準安定材料を簡単に開発します。アモルファスおよび微結晶材料の研究および実験作業に最適です。効果的な結果を得るには今すぐ注文してください。

ラボおよびダイヤモンド成長用のベルジャー共振器 MPCVD マシン

ラボおよびダイヤモンド成長用のベルジャー共振器 MPCVD マシン

ラボおよびダイヤモンドの成長用に設計されたベルジャー レゾネーター MPCVD マシンを使用して、高品質のダイヤモンド フィルムを取得します。炭素ガスとプラズマを使用してダイヤモンドを成長させるマイクロ波プラズマ化学気相成長法がどのように機能するかをご覧ください。

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF-PECVD は、「Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition」の頭字語です。ゲルマニウムおよびシリコン基板上にDLC(ダイヤモンドライクカーボン膜)を成膜します。 3~12umの赤外線波長範囲で利用されます。

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉は、真空または不活性ガス環境下で中周波誘導加熱を利用します。誘導コイルは交流磁場を生成し、黒鉛るつぼ内に渦電流を誘導し、ワークピースを加熱して熱を放射し、ワークピースを希望の温度にします。この炉は主に炭素材料、炭素繊維材料、その他の複合材料の黒鉛化および焼結に使用されます。

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉の利点をご覧ください!高温高圧下で緻密な耐火金属・化合物、セラミックス、複合材料を製造します。

プラズマ蒸着PECVDコーティング機

プラズマ蒸着PECVDコーティング機

PECVD コーティング装置でコーティング プロセスをアップグレードします。 LED、パワー半導体、MEMSなどに最適です。低温で高品質の固体膜を堆積します。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導率皮膜黒鉛化炉は温度が均一で、エネルギー消費が少なく、連続運転が可能です。

ラボおよびダイヤモンド成長用の円筒共振器 MPCVD マシン

ラボおよびダイヤモンド成長用の円筒共振器 MPCVD マシン

宝飾品業界や半導体業界でダイヤモンド宝石やフィルムを成長させるために使用されるマイクロ波プラズマ化学蒸着法である円筒共振器 MPCVD マシンについて学びます。従来の HPHT 方式と比べて費用対効果の高い利点を発見してください。

真空アーク炉 高周波溶解炉

真空アーク炉 高周波溶解炉

活性金属および高融点金属を溶解するための真空アーク炉の力を体験してください。高速で優れた脱ガス効果があり、コンタミネーションがありません。今すぐ詳細をご覧ください。

高純度プラチナ(Pt)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度プラチナ(Pt)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度のプラチナ(Pt)スパッタリングターゲット、粉末、ワイヤー、ブロック、顆粒を手頃な価格で提供します。さまざまな用途に合わせてさまざまなサイズと形状を用意しており、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズできます。


メッセージを残す