ナノ粒子製造のための気相凝縮法では、不活性ガス雰囲気の存在下で気化源から金属または無機材料を気化させます。このプロセスは不活性ガス凝縮法として知られている。気化した金属または無機材料の原子は、次に冷たい表面上で急速に凝縮し、ナノ粒子を形成する。
不活性ガス凝縮法では、前駆体蒸気を高温壁の反応器に通す。前駆体は分解し、ナノ粒子が気相中で核生成する。これらのナノ粒子はガス流によって運ばれ、コールドフィンガーに集められる。ナノ粒子のサイズは、粒子の滞留時間、チャンバーの温度、前駆体の組成、圧力などの要因によって決定される。
ナノ粒子を製造するもうひとつの方法は、レーザーアブレーションである。この方法では、適切なレーザーを使って蒸着する材料を溶かす。その後、材料を蒸発させ、ナノ粒子を基板上に堆積させる。
化学気相成長法（CVD）もまた、ナノ粒子の合成によく用いられる方法である。CVDでは、蒸気の形をした前駆物質が、高温下で真空チャンバー内の基板上で反応または分解する。このプロセスは、触媒の有無にかかわらず行うことができ、低圧CVD、大気圧CVD、ホットウォールCVD、コールドウォールCVD、プラズマエンハンストCVD、フォトアシストCVD、レーザーアシストCVDなど、さまざまなバリエーションがある。
化学気相成長法は、1つ以上の気体吸着種が高温の表面上で反応または分解し、安定した固体生成物を形成するボトムアップ・アプローチである。純粋な薄膜やナノ粒子を作る能力があり、製造収率が高く、スケールアップが簡単なことで知られている。
全体として、ナノ粒子製造のための気相凝縮法は、材料の気化に続いて、冷たい表面上での急速な凝縮を伴う。この方法は、不活性ガス凝縮法、レーザーアブレーション法、または化学気相成長法によって達成することができる。それぞれの技術には独自の利点があり、生成されるナノ粒子のサイズと特性を制御するために調整できるパラメーターがある。
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