真空溶解プロセスは、真空誘導溶解（VIM）としても知られ、電磁誘導を使用して真空条件下で金属や合金を溶解します。このプロセスは金属や合金の精錬に使用され、溶解した不純物や化学結合した不純物を除去し、清浄で均質な最終製品を生み出します。
真空誘導溶解プロセスでは、真空チャンバー内の誘導炉に耐火物を内張りしたるつぼを封入する。炉は気密性が高く、処理に必要な真空に耐えることができる。真空誘導溶解で使用される金属は一般的に融点が高く、最高1800℃です。
真空処理の主な目的は、処理環境からの汚染を排除し、最終製品の不純物レベルを低減することです。溶解プロセスでは、酸素、窒素、水素、炭素などの不純物が溶融金属から放出され、ポンプで排出されます。これにより、高純度の金属や合金を確実に製造することができます。
真空誘導溶解は、耐火性元素や反応性元素を含む可能性のある超合金や高強度鋼を含む高品質合金の生産に特に重要です。これらの材料は、部品の早期故障につながる非金属酸化物介在物の形成を防ぐために真空処理を必要とします。
真空誘導溶解プロセスは、電磁誘導によって実現される。誘導コイルに交流電流を流し、金属に渦電流を発生させる。この渦電流が熱を発生させ、最終的に金属の電荷を溶かします。
全体として、真空誘導溶解は二次冶金における重要なプロセスであり、溶融物の効果的な脱ガスと合金組成の精密な調整を可能にする。真空誘導溶解は、航空宇宙、自動車、エレクトロニクスなどさまざまな産業で、特定の特性や性能を持つ高純度金属や合金の製造に広く使用されています。
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