知識 レーザー焼結のプロセスとは?5つの主要ステップを解説
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 2 months ago

レーザー焼結のプロセスとは?5つの主要ステップを解説

レーザー焼結は選択的レーザー焼結(SLS)とも呼ばれ、積層造形分野のプロセスのひとつである。高出力レーザーを使用して、ポリマー粉末の小さな粒子を融合させる。

レーザーは、粉末ベッドの表面で3Dモデルから生成された断面をスキャンすることにより、粉末材料を選択的に融合させる。

各断面がスキャンされた後、パウダーベッドが1層分厚く下げられる。新しい材料の層が上に適用され、物体が完成するまでこのプロセスが繰り返される。

レーザー焼結プロセスの5つの主要ステップ

レーザー焼結のプロセスとは?5つの主要ステップを解説

1.粉末ベッドの準備

このプロセスは、ビルド・プラットフォーム上に粉末材料(通常はポリマーまたは金属)を敷き詰めることから始まる。この粉末は、ローラーまたは同様の機構によって、薄く均一な層に広げられる。

2.レーザー定着

コンピューターによって制御されたレーザービームが、3Dモデルデータに従ってパウダーベッドの表面をスキャンします。レーザーは粉末の粒子を融点まで加熱し、粒子同士を融合させる。このプロセスは精度が高く、複雑な形状を形成することができる。

3.レイヤーごとの構築

最初の層が焼結された後、造形プラットフォームが少し下がり、新しい粉末の層が上に広げられます。その後、レーザーが前の層の上に次の断面を焼結する。このステップを、オブジェクト全体が形成されるまで、レイヤーごとに繰り返します。

4.後処理

焼結プロセスが完了したら、余分な粉末を圧縮空気で除去します。この粉末は、リサイクルして次の造形に再利用することができる。最終部品には、硬化、浸潤、機械加工など、所望の仕上げや機械的特性を得るための後処理工程が追加される場合があります。

5.用途と利点

レーザー焼結は、航空宇宙、自動車、医療産業など、複雑な形状が要求される産業で特に有用である。従来の製造方法では困難または不可能であった複雑な内部構造を持つ部品を作ることができる。さらに、材料の無駄を減らし、少量生産やプロトタイピングの費用対効果を高めることができる。

この技術は、設計の自由度、生産速度、材料効率の面で大きな利点を提供し、現代の製造業における貴重なツールとなっています。

専門家にご相談ください。

KINTEKの最高級レーザー焼結装置で精密製造の未来を体験してください。比類のない設計の柔軟性、ラピッドプロトタイピング、革新的な材料オプションを採用し、付加製造能力を向上させましょう。KINTEKの最先端技術でイノベーションを推進する業界リーダーの仲間入りをしませんか。今すぐKINTEKの違いを発見し、プロジェクトの可能性を最大限に引き出しましょう!

関連製品

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉

真空加圧焼結炉は、金属およびセラミック焼結における高温ホットプレス用途向けに設計されています。その高度な機能により、正確な温度制御、信頼性の高い圧力維持、シームレスな操作のための堅牢な設計が保証されます。

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉のメリットを発見してください。均一加熱、低コスト、環境に優しい。

9MPa空気加圧焼結炉

9MPa空気加圧焼結炉

空圧焼結炉は、先端セラミック材料の焼結に一般的に使用されるハイテク装置です。真空焼結と加圧焼結の技術を組み合わせ、高密度・高強度セラミックスを実現します。

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉

真空ホットプレス炉の利点をご覧ください!高温高圧下で緻密な耐火金属・化合物、セラミックス、複合材料を製造します。

メッシュベルト式雰囲気制御炉

メッシュベルト式雰囲気制御炉

電子部品やガラス絶縁体の高温焼結に最適なメッシュベルト式焼結炉KT-MBをご覧ください。露天または制御雰囲気環境でご利用いただけます。

変圧器付きチェアサイド歯科用焼結炉

変圧器付きチェアサイド歯科用焼結炉

トランス付きチェアサイド焼結炉で一流の焼結を体験してください。操作が簡単、騒音のないパレット、自動温度校正。今すぐ注文!

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

自動実験室の暖かい静水圧プレス(WIP)20T/40T/60T

自動実験室の暖かい静水圧プレス(WIP)20T/40T/60T

温間静水圧プレス(WIP)の効率性をご覧ください。電子産業部品に最適なWIPは、低温で費用対効果の高い高品質の成形を保証します。

高温脱バインダー・予備焼結炉

高温脱バインダー・予備焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスによるセラミック材料の高温脱バインダー・予備焼結炉。MLCC、NFC等の電子部品に最適です。

炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質の炭化ケイ素 (SiC) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社の専門家チームは、お客様の正確なニーズに合わせて SiC 材料をリーズナブルな価格で製造および調整します。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどの製品ラインナップを今すぐご覧ください。

窒化ケイ素(Si3N4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

窒化ケイ素(Si3N4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズに合わせて、手頃な価格の窒化ケイ素 (Si3N4) 材料を入手してください。お客様の要件に合わせて、さまざまな形状、サイズ、純度を製造およびカスタマイズします。当社のスパッタリング ターゲット、パウダーなどの製品ラインナップをご覧ください。

チタンシリコン合金(TiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

チタンシリコン合金(TiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

ラボ用の手頃な価格のチタン シリコン合金 (TiSi) 材料をご覧ください。当社のカスタム生産では、スパッタリング ターゲット、コーティング、粉末などのさまざまな純度、形状、サイズを提供しています。あなたの独自のニーズに最適なものを見つけてください。

高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質シリコン (Si) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社のカスタム生産されたシリコン (Si) 材料には、お客様固有の要件に合わせてさまざまな純度、形状、サイズが用意されています。スパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどの当社のセレクションをご覧ください。今すぐ注文!

銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

お客様の独自の要件に合わせた、手頃な価格の銅ジルコニウム合金材料のラインナップをご覧ください。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどの当社のセレクションをご覧ください。

高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす高品質のジルコニウム材料をお探しですか?当社の手頃な価格の製品には、お客様固有の要件に合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどが含まれます。今すぐご連絡ください。

高純度チタン(Ti)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度チタン(Ti)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質チタン (Ti) 材料を手頃な価格で購入できます。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなど、お客様固有のニーズに合わせた幅広い製品を見つけてください。

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉

真空モリブデン線焼結炉は、高真空および高温条件下での金属材料の取り出し、ろう付け、焼結および脱ガスに適した縦型または寝室構造です。石英材料の脱水酸化処理にも適しています。


メッセージを残す