知識 管状炉の最高温度は何度ですか?
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 month ago

管状炉の最高温度は何度ですか?

管状炉の最高温度は機種やメーカーによって大きく異なります。

例えば Kintek の管状炉の最高温度は、製品範囲と使用される発熱体のタイプによって 1100°C から 2600°C の範囲になります。

横型管状炉も一般的なタイプで、最高温度は通常1200°Cから1800°Cです。

しかし、特殊なグラファイト管状炉では最高3000°Cに達することもあり、研究開発などの超高温用途に適しています。

管状炉の最高温度は? (考慮すべき4つの重要要素)

管状炉の最高温度は何度ですか?

1.機種とメーカーの仕様

管状炉の最高温度は機種やメーカーによって大きく異なります。

2.発熱体の種類

例えばKintekの管状炉では、製品レンジと使用される発熱体のタイプによって1100°Cから2600°Cの範囲があります。

3.設計および構造材料

管状炉の温度能力は、発熱体の設計や建設に使用される材料など、いくつかの要因に影響されます。

1400°Cから1800°Cに達する高温管状炉では、良好な熱均一性を確保するため、発熱体が加熱室の両側に配置されることがよくあります。

この設計は、高温材料の焼結、ガラス溶解、セラミックの高温試験などの用途に極めて重要です。

4.使用目的

要約すると、管状炉の最高温度は固定値ではなく、特定の機種とその用途に依存します。

基本的な用途に適した低温モデルから、高度な研究や特殊なプロセス用に設計された超高温モデルまで、ユーザーは様々なオプションから選択することができます。

専門家にご相談ください。

Kintek の管状炉の幅広い能力を発見し、研究室の研究の可能性を高めてください!

Kintekはお客様の特殊なニーズに最適な炉を提供することをお約束します。

Kintekをお選びいただければ、優れた温度制御と比類のない性能で、お客様の科学的進歩の原動力となります。

豊富な品揃えで、お客様の実験を新たな高みへと導きます!

関連製品

2200℃タングステン真空炉

2200℃タングステン真空炉

当社のタングステン真空炉で究極の高融点金属炉を体験してください。 2200℃まで到達可能で、先端セラミックスや高融点金属の焼結に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

マルチゾーン管状炉

マルチゾーン管状炉

当社のマルチゾーン管状炉を使用して、正確で効率的な熱試験を体験してください。独立した加熱ゾーンと温度センサーにより、制御された高温勾配加熱フィールドが可能になります。高度な熱分析を今すぐ注文してください。

1200℃ 石英管付き分割管炉

1200℃ 石英管付き分割管炉

KT-TF12 分割式管状炉: 高純度絶縁、発熱線コイル内蔵、最高温度 1200℃。1200C.新素材や化学蒸着に広く使用されています。

1700℃アルミナ管炉

1700℃アルミナ管炉

高温管状炉をお探しですか?アルミナ管付き1700℃管状炉をご覧ください。1700℃までの研究および工業用途に最適です。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

Rtp加熱管炉

Rtp加熱管炉

RTP急速加熱管状炉で高速加熱。便利なスライドレールとTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、正確で高速な加熱と冷却を実現します。今すぐご注文ください!

研究室用真空傾斜回転管炉

研究室用真空傾斜回転管炉

実験用回転炉の多用途性を発見してください。か焼、乾燥、焼結、高温反応に最適です。最適な加熱を実現する調整可能な回転および傾斜機能。真空および制御された雰囲気環境に適しています。今すぐ詳細をご覧ください。

1200℃ 制御雰囲気炉

1200℃ 制御雰囲気炉

KT-12Aプロ制御雰囲気炉は、高精度で頑丈な真空チャンバー、多用途でスマートなタッチスクリーン制御装置、最高1200℃までの優れた温度均一性を備えています。実験室および工業用途に最適です。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

2200 ℃グラファイト真空炉

2200 ℃グラファイト真空炉

最高使用温度2200℃のKT-VG黒鉛真空炉は、様々な材料の真空焼結に最適です。詳細はこちら

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

KT-CTF14 マルチ加熱ゾーン CVD 炉 - 高度なアプリケーション向けの正確な温度制御とガス流量。最高温度1200℃、4チャンネルMFC質量流量計、7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを搭載。

お客様製汎用CVD管状炉CVD装置

お客様製汎用CVD管状炉CVD装置

KT-CTF16 カスタマーメイド多用途炉であなただけの CVD 炉を手に入れましょう。カスタマイズ可能なスライド、回転、傾斜機能により、正確な反応を実現します。今すぐ注文!

真空シール連続作業回転式管状炉

真空シール連続作業回転式管状炉

真空シール式回転式管状炉で効率的な材料処理を体験してください。実験や工業生産に最適で、制御された供給と最適な結果を得るためのオプション機能を備えています。今すぐご注文ください。

真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉

真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉

バキュームステーションを備えた効率的なスプリットチャンバー式CVD炉。最高温度1200℃、高精度MFC質量流量計制御。


メッセージを残す