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PVDコーティングは、様々な用途に使用される多用途かつ精密な技術です。
PVDコーティングの厚さは、通常0.25～5ミクロンです。
ステンレス鋼板のような装飾目的の場合、コーティングは0.30ミクロンまで薄くすることができます。
機能的用途では、一般的に厚さは2～5ミクロンです。
より過酷な摩耗条件にさらされる製品には、より厚いPVDコーティング（通常1μm以上）が必要です。
薄いコーティングを支え、局所的な圧力で破壊点に達するのを防ぐため、基材は硬くなければなりません。
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CVD ダイヤモンドコーティング: 切削工具、摩擦、音響用途向けの優れた熱伝導性、結晶品質、接着力
PECVD コーティング装置でコーティング プロセスをアップグレードします。 LED、パワー半導体、MEMSなどに最適です。低温で高品質の固体膜を堆積します。
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CVDダイヤモンド伸線ダイスブランク：硬度、耐摩耗性に優れ、様々な材質の伸線に適用可能。グラファイト加工などの摩耗加工用途に最適です。
915MHz MPCVD ダイヤモンドマシンとその多結晶効果成長、最大面積は 8 インチに達し、単結晶の最大有効成長面積は 5 インチに達します。この装置は主に、成長にマイクロ波プラズマによるエネルギーを必要とする大型多結晶ダイヤモンド膜の製造、長尺単結晶ダイヤモンドの成長、高品質グラフェンの低温成長などに使用されます。
CVD ダイヤモンドドレッサーブランクの比類のないパフォーマンス、つまり高い熱伝導率、優れた耐摩耗性、および方向の独立性を体験してください。
熱管理用の CVD ダイヤモンド: 熱伝導率が最大 2000 W/mK の高品質ダイヤモンドで、ヒート スプレッダー、レーザー ダイオード、GaN on Diamond (GOD) アプリケーションに最適です。
ラボおよびダイヤモンド成長用の円筒共振器 MPCVD マシン
宝飾品業界や半導体業界でダイヤモンド宝石やフィルムを成長させるために使用されるマイクロ波プラズマ化学蒸着法である円筒共振器 MPCVD マシンについて学びます。従来の HPHT 方式と比べて費用対効果の高い利点を発見してください。
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CVD ホウ素ドープ ダイヤモンド: エレクトロニクス、光学、センシング、および量子技術の用途に合わせて調整された導電性、光学的透明性、優れた熱特性を可能にする多用途の材料です。
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