石英ガラスは、溶融石英または溶融シリカとしても知られ、卓越した熱的、光学的、化学的特性を持つ高純度材料です。その融点は、高温環境下での用途にとって重要なパラメーターである。参考文献によると、石英の融点は 1670°C .この高い溶融温度は、低熱膨張と熱衝撃への耐性と相まって、石英ガラスを光学、半導体、照明などの産業における要求の厳しい用途に適したものにしている。
キーポイントの説明
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石英ガラスの融点
- 石英ガラスの融点は 1670°C と文献に明記されている。
- この高い融点は、強いケイ素-酸素（Si-O）結合の結果であり、この結合を切断するには大きなエネルギーを必要とする。
- 石英ガラスの融点は、炉、照明器具、半導体製造などの高温用途への適性を決定する重要な要素である。
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石英ガラスの熱特性
- 石英ガラスは 低熱膨張 つまり、熱を加えても大きく膨張しないため、熱応力によるクラックのリスクが低減される。
- また 熱衝撃に対する高い耐性 急激な温度変化にも破損することなく耐えることができる。
- これらの特性と高融点が相まって、石英ガラスは温度変化の激しい環境での使用に理想的です。
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化学的および光学的特性
- 石英ガラスは化学的に純粋で耐食性に優れ、過酷な化学環境での使用に適している。
- また 優れた紫外線（UV）透過率 紫外分光法におけるレンズや窓などの光学機器に最適です。
- また、紫外から赤外までの広いスペクトル範囲にわたって透明であるため、優れた光透過性が確保され、光学や照明の用途に極めて重要です。
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石英ガラスの用途
- 石英ガラスはその高い融点と熱安定性により、以下のような高温用途に使用されている。 高温用途 炉心管、るつぼ、照明部品など。
- その光学的透明性と紫外線透過性により、次のような材料として好まれている。 光学機器 レンズ、プリズム、窓など。
- 半導体産業では 半導体産業 石英ガラスは、その純度と高温への耐性の高さから、ウェハーキャリアや反応チャンバーに使用されている。
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他のガラスとの比較
- 融点が低く、熱的特性も異なるホウケイ酸ガラスとは異なり、石英ガラスは、極めて高い熱的・光学的性能が要求される用途に特別に選ばれている。
- 石英ガラスは 高純度 石英ガラスは、他の材料とは異なり、繊細なプロセスにおける汚染を最小限に抑えます。
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装置購入者のための実際的な考慮事項
- 高温用途に石英ガラスを選ぶ場合は、使用温度が融点（1670℃）を超えないようにする。
- また 熱膨張係数 および 耐熱衝撃性 温度変化の激しい環境下での耐久性を確保するための耐熱衝撃性。
- 光学用途では、最適な性能を得るために、紫外線透過率が高く、不純物の少ない石英ガラスを優先する。
まとめると、石英ガラスは1670℃の融点を持つ汎用性の高い材料であり、高温で光学的要求の高い用途に適している。その熱的、化学的、光学的特性のユニークな組み合わせにより、照明から半導体まで幅広い産業で使用されています。石英ガラスを購入する場合、その融点と関連特性を理解することは、特定のニーズに適した材料を選択するために不可欠です。
要約表
| プロパティ | 詳細 |
|---|---|
| 融点 | 1670°C |
| 熱膨張 | 低熱膨張、熱応力下でのクラックのリスクを低減 |
| 耐熱衝撃性 | 高い、急激な温度変化にも損傷なく耐える |
| 紫外線透過率 | 光学機器や紫外分光測定に理想的な優れた透過率 |
| 用途 | 高温環境、光学、半導体、照明 |
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