回転キルンの温度は一定ではなく、処理される材料や特定の工業用途によって大きく変化する。一般に、ロータリーキルンは200℃の低温から2500℃の高温まで、広い温度範囲で運転される。例えば、間接式ロータリーキルンの炉管温度は通常1200~1300℃に保たれるが、内部の材料は1150℃以下に保たれる。正確な温度は、材料の化学組成、反応熱、熱伝導率、所望のプロセス結果などの要因に影響される。さらに、保持時間やベッドプロファイルなどの要素を含むキルンの設計とサイズも、運転温度を決定する役割を果たす。
キーポイントの説明

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ロータリーキルンの一般的な温度範囲:
- ロータリーキルンは広い温度範囲で使用される。 200°Cから2500°C まで、材料とプロセスの要求に応じて選択できます。
- 乾燥のような低温プロセスから脱炭酸や焼結のような高温プロセスまで、ロータリーキルンはこの広い範囲によって多様な産業用途に対応できます。
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間接式ロータリーキルンの温度:
- 間接式ロータリーキルンでは、炉管温度は 1200-1300°C 一方、窯の中の材料は低温に保たれる。 1150℃以下 .
- この設計により、材料は間接的に加熱され、極端な温度に直接さらされることが少なくなり、潜在的な損傷や不要な反応を最小限に抑えることができます。
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キルン温度に影響を与える要因:
- 材料特性:温度は、材料の化学組成、粒度分布、かさ密度、研磨性、腐食性、比熱、反応熱、熱伝導率に大きく影響される。
- プロセス要件:プロセスの望ましい結果(乾燥、脱炭酸、還元など)により、必要な温度プロファイルが決まります。
- キルン設計:保持時間、ベッドプロファイル、原料の燃焼や揮発による発熱などの要因も運転温度に影響する。
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電気加熱式ロータリーキルンのゾーニング:
- 電気加熱式ロータリーキルンは、多くの場合、複数の温度ゾーン、例えば予熱ゾーン 予熱ゾーン および 高温加熱ゾーン .
- 各ゾーンは、プロセス要件に基づいて特定の温度に設定することができ、加熱プロセスを正確に制御することができます。
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還元条件と温度:
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還元条件を必要とするプロセスでは、温度は以下の影響を受ける:
- 温度 温度、反応性、還元剤の量 .
- 滞在時間 滞留時間 キルン内での材料の滞留時間。
- そのため チャージホールドアップ キルンの排出端でのチャージホールドアップは、 材料が還元条件に曝される時間に影響する。
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還元条件を必要とするプロセスでは、温度は以下の影響を受ける:
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設計とサイズの考慮:
- キルンのサイズと設計は、要求される容量、発熱量、供給速度、保持時間、希望するベッドプロファイルに合わせて調整されます。
- これらの要素は、キルンが特定の材料とプロセスに必要な温度プロファイルを達成できることを保証する。
これらの重要なポイントを理解することで、購入者 は、特定の用途に必要な温度をより良く評価し、プ ロセスのニーズを満たすロータリーキルンを選 択することができる。
総括表
アスペクト | 詳細 |
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一般温度範囲 | 200°C~2500°C、材料とプロセス要件による |
間接ロータリーキルン | 炉管1200-1300°C; 材料<1150°C. |
主な影響因子 | 材料特性、プロセス要件、キルン設計、ゾーニング。 |
電気加熱キルン | 複数のゾーン(例:予熱、高温)で精密に制御。 |
還元条件 | 温度は還元剤の特性、滞留時間、ホールドアップに影響されます。 |
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