物理的気相成長法(PVD)は、物理的手段によって固体材料を蒸気の状態に変換し、この蒸気を低圧領域を横切って輸送し、基板上に凝縮させて薄膜を形成することにより、薄膜を堆積させるために使用される技術である。このプロセスは通常、真空条件下で行われ、原料のガス化、蒸気の輸送、基板上での凝縮など、いくつかの段階を経る。PVDは、高い耐熱性と基材への強固な密着性を持ち、硬く耐食性に優れた皮膜を作ることができるため、さまざまな産業で広く利用されている。最も一般的なPVD法にはスパッタリングと蒸着があり、化学的蒸着(CVD)とは異なり、PVDは化学的プロセスではなく物理的プロセスで材料を堆積させる。また、PVDは有害な化学物質を使用しないため、環境に優しいと考えられています。
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