CVDグラフェンの正式名称は、Chemical Vapor Deposition grapheneである。
この用語は、炭素原子が六角形の格子構造に配列した原子1個の厚さの層であるグラフェンを製造する特定の方法を指す。
CVDグラフェンは、その高い品質と大量生産の可能性で注目されており、エレクトロニクスや複合材料などさまざまな用途で特に有用である。
CVDグラフェンとは（5つのポイント解説）
1.製造方法（化学気相成長法）
CVDプロセスでは、ガス状の反応物質を基板（通常は銅、白金、イリジウムなどの金属表面）上に蒸着させる。
気体は、金属触媒の存在下で高温で反応し、炭素種の分解を触媒するだけでなく、グラフェン格子の核形成のための表面を提供する。
この方法により、グラフェン膜を成長させることができ、後に金属基板から分離して他の必要な基板に転写することができる。
2.複合材料への応用
CVDグラフェンは複合材料の製造に用いられ、特にポリマーの熱伝導性を向上させる。
この熱伝導率の向上により、これらの複合材料は、高い熱伝導性が重要な薄膜コーティングやセンサー用途に理想的なものとなる。
3.エレクトロニクスへの応用
CVDグラフェンは、その優れた電気伝導性と低い抵抗率により、エレクトロニクス産業で高く評価されている。
薄膜、超伝導体、光学ディスプレイなど、さまざまな電子デバイスに使用されており、そのユニークな特性によってデバイスの性能を大幅に向上させることができる。
4.炭素源に基づく分類
CVDプロセスでは、気体、液体、固体化合物など、さまざまな炭素源を使用することができる。
前駆体（ヘキサクロロベンゼン、アセチレン、メタン、エチレンなど）の選択と反応条件（温度、圧力）は、得られるグラフェンの品質と特性に影響を与える。
固体前駆体の使用により、より低温での分解が可能となり、大気圧CVDに適している。
5.商業化への課題
その可能性とは裏腹に、CVD で成長させたグラフェンの商業化には、金属不純物や製造・移送中の欠陥に関する課題がある。
多くの企業は、低コストで純粋な単層グラフェンの生産という目標を達成するため、こうした課題の克服に多額の投資を行っている。
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