工業用真空システムは、真空容器、様々なタイプのポンプ（機械、ブースター、拡散、ターボ分子、保持）、関連配管、マニホールド、バルブ、真空測定装置、トラップなどを含む複雑なセットアップです。これらのシステムは、包装、脱気、乾燥、瓶詰めなどのプロセスにおいて、工業生産に欠かせないものです。これらのシステムは、チャンバーから空気、ガス、その他の分子を除去して真空を作り出し、多数の産業および科学的用途に不可欠な機能を果たします。
コンポーネントと機能
工業用真空システムの中核は真空容器であり、この真空容器は複数のタイプのポンプに接続されている。これらのポンプは、通常1.3～13.3mbarの広い圧力範囲で作動するように設計されています。システムには、初期真空生成用の機械式ポンプ、真空レベルを高めるためのブースターポンプ、高真空用の拡散ポンプ、超高真空用のターボ分子ポンプなどがあります。各タイプのポンプは、真空生成プロセスにおいて特定の機能を果たし、必要に応じて真空レベルを維持・向上させます。アプリケーション
産業用真空システムは汎用性が高く、幅広い産業で応用されています。製造業では、真空脱気プロセス、複合プラスチック成形、電気ランプ、真空管、CRTの製造に使用されています。半導体産業では、イオン注入、ドライエッチング、PVD、ALD、PECVD、CVDなどの成膜技術などのプロセスに不可欠である。また、電子顕微鏡、医療用吸引プロセス、ウラン濃縮、放射線治療や放射線手術などの医療用途でも重要な役割を果たしている。さらに、真空ポンプは分析機器や質量分析計にも使用され、正確な分析に必要な真空状態を作り出します。
操作
産業用真空ポンプの基本的な動作原理は、真空チャンバーから空気やその他の分子を除去することです。圧力が下がるにつれて、追加分子の除去はより困難になり、目的の真空レベルを達成し維持するために、異なるタイプのポンプをシリーズで使用する必要があります。この複雑さにより、真空システムは、産業環境で必要とされる広大な圧力範囲にわたって効果的に動作することができます。
