実験用資料
高純度酸化マグネシウム(MgO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MgO
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- MgO
- 純度
- 4N
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.
当社は、実験室での使用のために特別に設計された高品質の酸化マグネシウム (MgO) 材料を提供しています。当社は、お客様固有の要件を満たすために、さまざまな純度、形状、サイズの酸化マグネシウム (MgO) 材料を製造および調整する専門知識に誇りを持っています。
スパッタリングターゲット（円形、角形、管状、不定形）、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティング粉末、ナノメートル粉末、線材、インゴットなど、製品の仕様とサイズを幅広く取り揃えております。 、ブロックなどがあります。お客様のニーズがどのようなものであっても、当社はお客様に最適な製品をご用意できるものと確信しています。
詳細
酸化マグネシウム（MgO）について
酸化マグネシウムは、不溶性が高く熱的に安定したマグネシウム源です。その特性により、ガラス、光学、セラミックの用途でよく使用されます。酸化マグネシウムは白色の吸湿性粉末で、水が存在すると水酸化マグネシウムを形成します。歴史的には「マグネシアの白い鉱物」を意味するマグネシア アルバとして知られていました。
酸化物化合物は一般に電気を通しません。ただし、ペロブスカイト構造酸化物は例外であり、固体酸化物燃料電池や酸素発生システムのカソードに応用されています。酸化物化合物には、少なくとも 1 つの酸素アニオンと 1 つの金属カチオンが含まれています。これらは通常、水に不溶性であるため、安定しており、セラミック構造で有用です。粘土ボウルの製造から、航空宇宙および電気化学用途における高度なエレクトロニクスおよび軽量構造コンポーネントまで、金属酸化物化合物は多用途に使用できます。
酸化マグネシウムは、酸化還元反応において酸や強力な還元剤と反応する塩基性無水物です。さらに、酸化マグネシウムは、当社のナノスケール生産施設から、ペレット、小片、粉末、スパッタリング ターゲット、タブレット、およびナノパウダーの形で入手できます。一般にほとんどの量が入手可能であり、超高純度、高純度、サブミクロン、およびナノ粉末の形態で入手できます。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
4.8
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is a game-changer. The delivery was lightning fast and the quality is impeccable.
4.9
out of
5
I'm thoroughly impressed with the value for money I got with KINTEK's MgO sputtering target. It's a steal!
4.7
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is a testament to their commitment to quality. It's durable and performs consistently.
4.8
out of
5
The technological advancement in KINTEK's MgO sputtering target is remarkable. It's a cutting-edge product that meets all my research needs.
4.9
out of
5
I couldn't ask for a better MgO sputtering target. KINTEK has exceeded my expectations in every way.
4.7
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is a reliable workhorse in my lab. It's a product I can always count on.
4.8
out of
5
The speed of delivery for KINTEK's MgO sputtering target was incredible. I received it within days of placing my order.
4.9
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is worth every penny. It's a high-quality product that delivers exceptional results.
4.7
out of
5
I'm amazed by the durability of KINTEK's MgO sputtering target. It's still going strong after months of use.
4.8
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is a game-changer for my research. It's enabled me to achieve breakthroughs I never thought possible.
4.9
out of
5
I'm highly satisfied with KINTEK's MgO sputtering target. It's a top-notch product that has enhanced my lab's capabilities.
4.7
out of
5
The technological advancements in KINTEK's MgO sputtering target are truly impressive. It's a cutting-edge product that sets new standards.
4.8
out of
5
I'm thrilled with the speed of delivery for KINTEK's MgO sputtering target. It arrived much sooner than I expected.
4.9
out of
5
KINTEK's MgO sputtering target is an excellent investment. It's a high-quality product that has paid for itself many times over.
4.7
out of
5
I'm highly impressed with KINTEK's MgO sputtering target. It's a durable and reliable product that has exceeded my expectations.
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高純度マグネシウム(Mn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす手頃な価格のマグネシウム (Mn) 材料をお探しですか?当社のカスタムサイズ、形状、純度はお客様のニーズに応えます。今すぐ当社の多様なセレクションをご覧ください!
高純度酸化モリブデン(MoO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質の酸化モリブデン (MoO3) 材料をお探しですか?当社は、カスタマイズされたソリューションをリーズナブルな価格で提供します。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体などを幅広く取り揃えております。今すぐご連絡ください。
フッ化マグネシウム(MgF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のフッ化マグネシウム (MgF2) 材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門的にカスタマイズされた材料は、お客様の特定の要件を満たすために、さまざまな純度、形状、サイズで提供されます。スパッタリング ターゲット、パウダー、インゴットなどを今すぐ購入しましょう。
高純度酸化亜鉛(ZnO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす最高品質の酸化亜鉛 (ZnO) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家チームは、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを含む、さまざまな純度、形状、サイズの特注材料を製造します。今すぐお買い物してください！
カーボン紙/布 ダイアフラム 銅/アルミ箔およびその他のプロ用切削工具
リチウムシート、カーボン紙、カーボンクロス、セパレーター、銅箔、アルミ箔などを丸型、角型、様々なサイズの刃で切断するプロフェッショナルツールです。
高純度酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の酸化アルミニウム材料をお探しですか?当社は、お客様の特定のニーズを満たすためにカスタマイズ可能な形状とサイズを備えた高品質の Al2O3 製品を手頃な価格で提供します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを検索します。
PTFE容器は耐食性、化学的不活性性に優れた容器です。
ジルコニアセラミックロッド - 安定化イットリウム精密機械加工
ジルコニアセラミックロッドは静水圧プレスによって製造され、高温かつ高速で均一で緻密で滑らかなセラミック層と転移層が形成されます。
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に、さまざまな純度、形状、サイズの酸化鉄 (Fe3O4) 材料を入手します。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末、線材などが含まれます。今すぐお問い合わせください。
高純度酸化タングステン(WO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
高品質の酸化タングステン (WO3) 材料をお探しですか?当社の実験室グレードの製品は、お客様の特定のニーズに合わせて調整されており、さまざまな純度、形状、サイズが用意されています。スパッタリングターゲットやコーティング材料などを購入できます。
窒化ケイ素 (sic) セラミックは、焼結中に収縮しない無機材料セラミックです。高強度、低密度、耐高温性の共有結合化合物です。
フッ化マグネシウム (MgF2) は異方性を示す正方晶系結晶であるため、高精度のイメージングや信号伝送を行う場合には単結晶として扱うことが不可欠です。
Square Lab Press Mold を使用すると、均一なサンプルを簡単に作成できます - さまざまなサイズが用意されています。電池、セメント、セラミックスなどに最適です。カスタムサイズも利用可能です。
高純度モリブデン(Mo)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用のモリブデン (Mo) 材料をお探しですか?当社の専門家は、カスタムの形状とサイズを手頃な価格で製造します。豊富な仕様・サイズからお選びいただけます。今すぐ注文。
高温アルミナ炉管は、アルミナの高硬度、優れた化学的不活性性、鋼の利点を組み合わせており、優れた耐摩耗性、耐熱衝撃性、機械的衝撃耐性を備えています。
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化クロム材料をお探しですか?当社の製品には、お客様のニーズに合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどが含まれます。手頃な価格で今すぐ購入してください。
ジルコニアセラミックボールは、高強度、高硬度、PPM摩耗レベル、高破壊靱性、優れた耐摩耗性、および高比重の特性を備えています。
高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の二酸化ケイ素材料をお探しですか?当社の専門的にカスタマイズされた SiO2 材料には、さまざまな純度、形状、サイズがあります。今すぐ当社の幅広い仕様をご覧ください。
高純度アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
高品質の AZO 材料をお探しですか?当社のラボグレードのアルミニウムドープ酸化亜鉛製品は、スパッタリングターゲット、粉末などを含むお客様の正確な仕様に合わせて調整されます。今すぐ注文。
高純度酸化ビスマス(Bi2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化ビスマス (Bi2O3) 材料を手頃な価格で入手できます。独自のニーズに合わせて、幅広いサイズと形状からお選びください。今すぐ注文！
アルミナセラミックネジは99.5%アルミナ製の締結部品で、優れた耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性を必要とする極端な用途に最適です。
BaF2 は最速のシンチレーターであり、その優れた特性により人気があります。その窓とプレートは VUV および赤外分光分析に貴重です。
高純度酸化ニッケル(Ni2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合った高品質の酸化ニッケル材料を手頃な価格で見つけてください。当社のカスタマイズされたソリューションは、お客様の特定の要件に適合します。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどのさまざまな形状、サイズ、仕様を見つけてください。
ボロアルミノケイ酸ガラスは熱膨張に対する耐性が高いため、実験用ガラス器具や調理器具など、温度変化への耐性が必要な用途に適しています。
絶縁アルミナ棒はファインセラミックス素材です。アルミナロッドは、優れた電気絶縁特性、高い耐薬品性、低い熱膨張を備えています。
ジルコニアセラミックプレート - イットリア安定化精密機械加工
イットリウム安定化ジルコニアは高硬度、高温耐性という特徴を持ち、耐火物や特殊セラミックスの分野で重要な素材となっています。
ジルコニア絶縁セラミックガスケットは、高融点、高抵抗率、低熱膨張係数などの特性を備えており、重要な高温耐性材料、セラミック絶縁材料およびセラミック日焼け止め材料となっています。
関連記事
マグネトロンスパッタリングターゲット中毒の理解と予防
マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットの被毒現象、その原因、影響、予防策について解説。
マグネトロンスパッタリング成膜中のターゲット材のスパーク：原因と解決策
マグネトロンスパッタリング中にターゲット材料がスパークする理由を説明し、それを防止するためのソリューションを提供。
薄膜作製におけるDC、MF、RFスパッタリングの違いと用途を理解する
この記事では、薄膜作製におけるDC、MF、RFスパッタリング技術の区別と応用について説明する。
マグネトロンスパッタ薄膜の密着性に影響する因子
マグネトロンスパッタリング技術によって作製された薄膜の接着性に影響を与える主要因を詳細に分析。
マグネトロンスパッタリングにおけるセラミックターゲット中心領域の激しいアブレーションの解析
本稿では、マグネトロンスパッタリングでセラミックターゲットの中心領域が激しくアブレーションする原因と解決策について述べる。