実験用資料
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Cr2O3
価格は以下に基づいて変動します specs and customizations
- 化学式
- Cr2O3
- 純度
- 4N
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください On-time Dispatch Guarantee.
当社は実験室用の酸化クロム (Cr2O3) 材料を手頃な価格で提供しています。当社の専門分野は、お客様の特定のニーズに応えるために、さまざまな純度、形状、サイズの酸化クロム (Cr2O3) 材料の製造とカスタマイズにあります。
スパッタリングターゲット（円形、角形、管状、不定形）、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴットなど、様々な用途に合わせた幅広い仕様・サイズを取り揃えております。 、ブロックなどがあります。
詳細
酸化クロム(Cr2O3)について
酸化クロム(III) は、不溶性が高く熱的に安定したクロム源であり、ガラス、光学、セラミックスなどのさまざまな産業に応用されています。この緑色の吸湿性固体は、希少鉱物エスコライトとして天然に発見されます。
一般に、酸化物化合物は電気を通しません。ただし、特定のペロブスカイト構造酸化物は電子伝導性があり、固体酸化物型燃料電池や酸素発生システムのカソードに有用です。これらの化合物には、少なくとも 1 つの酸素アニオンと 1 つの金属カチオンが含まれています。これらは通常、水溶液に溶けないため、非常に安定しており、単純な粘土ボウルから高度なエレクトロニクス、航空宇宙や電気化学用途の軽量構造部品に至るまで、セラミック構造物に有用です。
高純度 (99.999%) 酸化クロム (Cr2O3) 粉末は、イオン伝導性を示す燃料電池に応用されています。金属酸化物化合物は塩基性無水物であるため、酸化還元反応において酸や強力な還元剤と反応する可能性があります。酸化クロムは、ペレット、小片、粉末、スパッタリング ターゲット、タブレット、およびナノ粉末の形態でも入手できます。一般に、ほとんどの量がすぐに入手可能であり、高純度のサブミクロンおよびナノ粉末の形態が検討される可能性があります。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
FAQ
物理蒸着 (PVD) とは何ですか?
スパッタリングターゲットとは何ですか？
高純度材料とは何ですか?
マグネトロンスパッタリングとは何ですか?
スパッタリングターゲットはどのように作られるのでしょうか？
なぜマグネトロンスパッタリングなのか?
スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
薄膜形成に使用される材料は何ですか?
薄膜堆積では、一般的に金属、酸化物、化合物を材料として利用しますが、それぞれに独自の長所と短所があります。金属は耐久性と堆積の容易さの点で好まれますが、比較的高価です。酸化物は耐久性が高く、高温に耐え、低温でも堆積させることができますが、脆くて加工が難しい場合があります。化合物は強度と耐久性を備え、低温で堆積でき、特定の特性を示すように調整できます。
薄膜コーティングの材料の選択は、用途の要件によって異なります。金属は熱と電気の伝導に理想的ですが、酸化物は保護を提供するのに効果的です。化合物は特定のニーズに合わせて調整できます。最終的に、特定のプロジェクトに最適な素材は、アプリケーションの特定のニーズによって異なります。
エレクトロニクス用のスパッタリングターゲットとは何ですか?
最適な薄膜成膜を実現するにはどのような方法がありますか?
望ましい特性を備えた薄膜を実現するには、高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料が不可欠です。これらの材料の品質は、純度、粒子サイズ、表面状態などのさまざまな要因によって影響されます。
不純物は得られる薄膜に欠陥を引き起こす可能性があるため、スパッタリングターゲットまたは蒸着材料の純度は重要な役割を果たします。粒子サイズも薄膜の品質に影響を与え、粒子が大きくなると膜の特性が低下します。さらに、表面が粗いとフィルムに欠陥が生じる可能性があるため、表面状態も非常に重要です。
最高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料を得るには、高純度、小さな粒径、滑らかな表面を備えた材料を選択することが重要です。
薄膜蒸着の用途
酸化亜鉛系薄膜
ZnO 薄膜は、熱、光学、磁気、電気などのさまざまな産業で応用されていますが、主な用途はコーティングと半導体デバイスです。
薄膜抵抗器
薄膜抵抗器は現代のテクノロジーにとって極めて重要であり、ラジオ受信機、回路基板、コンピューター、高周波デバイス、モニター、ワイヤレス ルーター、Bluetooth モジュール、および携帯電話受信機で使用されています。
磁性薄膜
磁性薄膜は、エレクトロニクス、データストレージ、無線周波数識別、マイクロ波装置、ディスプレイ、回路基板、オプトエレクトロニクスの主要コンポーネントとして使用されています。
光学薄膜
光学コーティングとオプトエレクトロニクスは、光学薄膜の標準的な用途です。分子線エピタキシーでは、光電子薄膜デバイス (半導体) を製造できます。この場合、エピタキシャル膜は一度に 1 原子ずつ基板上に堆積されます。
高分子薄膜
ポリマー薄膜は、メモリチップ、太陽電池、電子デバイスに使用されます。化学蒸着技術 (CVD) により、適合性やコーティングの厚さを含むポリマー フィルム コーティングを正確に制御できます。
薄膜電池
薄膜電池は埋め込み型医療機器などの電子機器に電力を供給しており、リチウムイオン電池は薄膜の使用により大幅に進歩しました。
薄膜コーティング
薄膜コーティングは、さまざまな産業や技術分野におけるターゲット材料の化学的および機械的特性を強化します。一般的な例としては、反射防止コーティング、紫外線防止または赤外線防止コーティング、傷防止コーティング、レンズの偏光などが挙げられます。
薄膜太陽電池
薄膜太陽電池は太陽エネルギー産業にとって不可欠であり、比較的安価でクリーンな電力の生産を可能にします。太陽光発電システムと熱エネルギーは、適用可能な 2 つの主要な技術です。
スパッタリングターゲットの寿命はどのくらいですか?
薄膜の堆積に影響を与える要因とパラメータ
堆積速度:
フィルムの製造速度（通常は厚さを時間で割った値で測定されます）は、用途に適した技術を選択するために重要です。薄膜には中程度の堆積速度で十分ですが、厚い膜には速い堆積速度が必要です。速度と正確な膜厚制御のバランスをとることが重要です。
均一：
基板全体にわたるフィルムの一貫性は均一性として知られており、通常はフィルムの厚さを指しますが、屈折率などの他の特性にも関係する場合があります。均一性の過小または過大な仕様を避けるために、アプリケーションをよく理解することが重要です。
充填能力:
充填能力またはステップカバレージは、堆積プロセスが基板のトポグラフィーをどの程度うまくカバーするかを指します。使用される堆積方法 (CVD、PVD、IBD、または ALD など) は、ステップ カバレッジと充填に大きな影響を与えます。
フィルムの特徴:
フィルムの特性は、フォトニック、光学、電子、機械、または化学に分類できるアプリケーションの要件によって異なります。ほとんどの映画は、複数のカテゴリの要件を満たす必要があります。
プロセス温度:
フィルムの特性はプロセス温度に大きく影響され、アプリケーションによって制限される場合があります。
ダメージ：
各堆積技術には、堆積される材料に損傷を与える可能性があり、フィーチャが小さいほどプロセス損傷を受けやすくなります。潜在的な損傷源には、汚染、紫外線、イオン衝撃などがあります。材料とツールの限界を理解することが重要です。
4.8
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide materials have exceeded our expectations in terms of quality and consistency. We highly recommend them for your laboratory needs.
4.9
out of
5
I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my research for years, and they've always been reliable and produced excellent results. Highly recommended!
4.7
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide powders have been instrumental in our battery research. Their high purity and fine grain size have enabled us to achieve remarkable results. Keep up the great work!
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our ceramic applications, and we've been thoroughly impressed with their durability and thermal stability. Highly satisfied!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide granules have been a game-changer for our material science research. Their uniform size and high purity have enabled us to obtain highly accurate and reproducible data. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide wires for our electronics applications, and they've been performing exceptionally well. Their high conductivity and resistance to corrosion have been crucial for our success. Highly recommended!
4.8
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide ingots have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and fine grain structure have enabled us to achieve superior results in our research. Thank you, KINTEK!
4.9
out of
5
I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my thin-film research, and I'm consistently impressed with their performance. They produce high-quality films with excellent uniformity and adhesion. Highly recommended!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide particles for our catalysis research, and we've been very satisfied with the results. Their high surface area and chemical purity have enabled us to achieve high catalytic activity and selectivity. Thank you, KINTEK!
4.8
out of
5
I'm very impressed with the quality and consistency of KINTEK's Chromium Oxide powders. I've been using them for my research on solid oxide fuel cells, and they've been performing exceptionally well. Highly recommended!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets have been a lifesaver for our research on magnetic materials. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent magnetic properties. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our high-temperature applications, and they've been performing flawlessly. Their exceptional thermal stability and durability have been instrumental in our success. Highly recommended!
4.8
out of
5
I'm very satisfied with the performance of KINTEK's Chromium Oxide granules. I've been using them for my research on electrochemical sensors, and they've been delivering highly reproducible and reliable results. Thank you, KINTEK!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide wires have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and excellent conductivity have enabled us to achieve superior performance in our electronic devices. Highly recommended!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide ingots for our research on energy storage materials, and we've been very impressed with their results. Their high energy density and long cycle life have been crucial for our success. Thank you, KINTEK!
4.8
out of
5
I'm very happy with the quality and performance of KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent optical properties. Highly recommended!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide particles have been a game-changer for our research on nanomaterials. Their uniform size and high purity have enabled us to achieve remarkable results. Thank you, KINTEK!
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高純度クロム(Cr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせたクロム材料を手頃な価格で入手できます。当社は、スパッタリング ターゲット、フォイル、パウダーなどを含むカスタムの形状やサイズを製造します。今すぐご連絡ください。
高純度酸化ジルコニウム(ZrO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
お客様のニーズに合わせた高品質の酸化ジルコニウム (ZrO2) 材料を入手してください。スパッタリングターゲットやパウダーなど、さまざまな形状やサイズを手頃な価格で提供しています。
高純度酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の酸化アルミニウム材料をお探しですか?当社は、お客様の特定のニーズを満たすためにカスタマイズ可能な形状とサイズを備えた高品質の Al2O3 製品を手頃な価格で提供します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを検索します。
高純度酸化イットリウム(Y2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
ラボ独自の要件に合わせてカスタマイズされた高品質の酸化イットリウム (Y2O3) 材料を入手してください。スパッタリングターゲット、コーティング材、パウダーなどをリーズナブルな価格で取り揃えております。
高純度酸化タングステン(WO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
高品質の酸化タングステン (WO3) 材料をお探しですか?当社の実験室グレードの製品は、お客様の特定のニーズに合わせて調整されており、さまざまな純度、形状、サイズが用意されています。スパッタリングターゲットやコーティング材料などを購入できます。
高純度酸化スカンジウム(Sc2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質酸化スカンジウム (Sc2O3) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社のカスタマイズされたソリューションは、お客様の要件に合わせてさまざまな純度、形状、サイズに適合します。当社のスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどの製品ラインナップをご覧ください。
ボロアルミノケイ酸ガラスは熱膨張に対する耐性が高いため、実験用ガラス器具や調理器具など、温度変化への耐性が必要な用途に適しています。
クロムニッケル合金(CrNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質のクロム ニッケル合金 (CrNi) 材料をお探しですか?専門的に作られ、カスタマイズされた当社のオプション以外に探す必要はありません。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどを含む、当社の幅広いサイズと仕様をご覧ください。今すぐお買い物してください！
ジルコニアセラミックプレート - イットリア安定化精密機械加工
イットリウム安定化ジルコニアは高硬度、高温耐性という特徴を持ち、耐火物や特殊セラミックスの分野で重要な素材となっています。
高純度酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室向けの高品質酸化セリウム (CeO2) 材料を手頃な価格で提供します。カスタマイズ可能な形状とサイズ。スパッタリング ターゲット、パウダー、3D プリント パウダーなど。今すぐ注文！
酸化アルミニウム (Al2O3) セラミック ヒートシンク - 絶縁
セラミックヒートシンクの穴構造により、空気と接触する放熱面積が増加し、放熱効果が大幅に向上し、放熱効果はスーパー銅やアルミニウムよりも優れています。
高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の二酸化ケイ素材料をお探しですか?当社の専門的にカスタマイズされた SiO2 材料には、さまざまな純度、形状、サイズがあります。今すぐ当社の幅広い仕様をご覧ください。
高純度酸化モリブデン(MoO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質の酸化モリブデン (MoO3) 材料をお探しですか?当社は、カスタマイズされたソリューションをリーズナブルな価格で提供します。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体などを幅広く取り揃えております。今すぐご連絡ください。
石英板は透明で耐久性があり、さまざまな業界で広く使用されている多用途部品です。高純度水晶を使用しており、耐熱性、耐薬品性に優れています。
高純度酸化ハフニウム(HfO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに応える高品質の酸化ハフニウム (HfO2) 材料を手頃な価格で入手できます。当社のカスタマイズ製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなど、さまざまなサイズや形状があります。
高純度酸化亜鉛(ZnO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす最高品質の酸化亜鉛 (ZnO) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家チームは、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを含む、さまざまな純度、形状、サイズの特注材料を製造します。今すぐお買い物してください！
高温用途向けの容器。材料を極度の高温に保って蒸発させ、基板上に薄膜を堆積できるようにします。
絶縁アルミナ棒はファインセラミックス素材です。アルミナロッドは、優れた電気絶縁特性、高い耐薬品性、低い熱膨張を備えています。
高純度酸化ネオジム(Nd2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化ネオジム材料を手頃な価格で購入できます。当社のカスタマイズされた製品は、お客様固有の要件を満たすために、さまざまな純度、形状、サイズで提供されます。幅広いスパッタリング ターゲット、パウダーなどからお選びいただけます。
シリコン (Si) は、約 1 μm ～ 6 μm の近赤外 (NIR) 範囲での用途に最も耐久性のある鉱物材料および光学材料の 1 つとして広く知られています。
高純度ロジウム(Rh)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のロジウム材料を手頃な価格で入手できます。当社の専門家チームは、お客様固有の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズのロジウムを製造およびカスタマイズします。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体など幅広い製品からお選びいただけます。
高純度酸化ビスマス(Bi2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化ビスマス (Bi2O3) 材料を手頃な価格で入手できます。独自のニーズに合わせて、幅広いサイズと形状からお選びください。今すぐ注文！
二酸化イリジウムの結晶格子はルチル構造です。二酸化イリジウムやその他の希少金属酸化物は、工業用電気分解用のアノード電極や電気生理学的研究用の微小電極に使用できます。
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に、さまざまな純度、形状、サイズの酸化鉄 (Fe3O4) 材料を入手します。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末、線材などが含まれます。今すぐお問い合わせください。
アルミナジルコニア 異形部品加工 オーダーメイドセラミックプレート
アルミナセラミックスは優れた導電性、機械的強度、高温耐性を備え、ジルコニアセラミックスは高強度、高靭性で知られ広く使用されています。
高純度酸化ニッケル(Ni2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合った高品質の酸化ニッケル材料を手頃な価格で見つけてください。当社のカスタマイズされたソリューションは、お客様の特定の要件に適合します。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどのさまざまな形状、サイズ、仕様を見つけてください。