実験用資料
銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CuZr
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- CuZr
- 純度
- 2N5
- よく使われる比率
- Cu:Zr=1:1 at% / Cu:Zr=1:2 at%
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.
当社は実験室用の銅ジルコニウム合金 (CuZr) 材料を手頃な価格で提供しています。当社の専門分野は、お客様の特定のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズの銅ジルコニウム合金 (CuZr) 材料を製造およびカスタマイズすることです。
スパッタリングターゲット(円形、角形、筒状、異形など)、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴット、とりわけブロック。
詳細
銅ジルコニウム合金(CuZr)について
銅ジルコニウムは、バー、インゴット、リボン、ワイヤー、ショット、シート、フォイルなどのさまざまな形状で製造できる多用途の材料です。
超高純度および高純度の形状が必要な用途には、金属粉末、サブミクロン粉末、ナノスケール材料も利用できます。これらの材料は薄膜堆積プロセスに最適であり、化学気相成長 (CVD) と物理気相成長 (PVD) の両方のアプリケーションのターゲットとして使用できます。
さらに、銅ジルコニウムから作られたペレットは、CVD および PVD プロセスで使用することもでき、材料科学者や研究者が特定のニーズに応じてアプリケーションをカスタマイズするためのさらに多くのオプションを提供します。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径:25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ:3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 )。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
FAQ
スパッタリングターゲットとは何ですか?
スパッタリングターゲットはどのように作られるのでしょうか?
スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
エレクトロニクス用のスパッタリングターゲットとは何ですか?
スパッタリングターゲットの寿命はどのくらいですか?
4.8
out of
5
Excellent quality and fast delivery. I highly recommend this product.
4.9
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is an excellent product. It is durable and produces high-quality results.
4.7
out of
5
I am very satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a great value for money and has met all my expectations.
4.8
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. It is easy to use and produces consistent results.
4.9
out of
5
I highly recommend the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a reliable and efficient product.
4.7
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a game-changer. It has significantly improved the quality of my work.
4.8
out of
5
I am very impressed with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made product that is worth every penny.
4.9
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a must-have for any laboratory. It is a versatile and high-quality product.
4.7
out of
5
I am extremely satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a durable and reliable product.
4.8
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great investment. It has saved me both time and money.
4.9
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. I highly recommend it to anyone in the market for a sputtering target.
4.7
out of
5
I am very happy with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made and durable product.
4.8
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great addition to my laboratory. It is a reliable and efficient product.
4.9
out of
5
I am very impressed with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made product that is worth every penny.
4.7
out of
5
I am extremely satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a durable and reliable product.
4.8
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great investment. It has saved me both time and money.
4.9
out of
5
The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. I highly recommend it to anyone in the market for a sputtering target.
4.7
out of
5
I am very happy with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made and durable product.
PDF - 銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
disabled = false, 3000)"> ダウンロードのカタログ 実験用資料
disabled = false, 3000)"> ダウンロードのカタログ スパッタリングターゲット
disabled = false, 3000)"> ダウンロード引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
銅ニッケル合金(CuNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせて、高品質の銅ニッケル合金 (CuNi) 材料を手頃な価格で入手できます。当社のカスタマイズされた製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどが含まれます。今すぐ注文!
アルミニウム銅合金(AlCu)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のアルミニウム銅合金 (AlCu) 材料を手頃な価格で入手できます。カスタマイズされた純度、形状、サイズが利用可能です。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを購入できます。
ジルコニウム銀合金(ZrAg)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の手頃な価格のジルコニウム銀合金 (ZrAg) 材料を見つけてください。当社のカスタマイズされたソリューションは、さまざまな純度、形状、サイズでお客様の固有のニーズに応えます。スパッタリング ターゲット、コーティング、粒子、粉末などを検索します。
高純度亜鉛(Zn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の亜鉛 (Zn) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家は、お客様のニーズに合わせて、さまざまな純度、形状、サイズの材料を製造およびカスタマイズします。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料などをご覧ください。
ジルコニウムシリコン合金(ZrSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
手頃な価格の実験室用ジルコニウムシリコン合金 (ZrSi) 材料をご覧ください。当社は、お客様固有の要件に合わせてカスタマイズされた材料を製造し、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などの幅広い仕様とサイズを提供しています。
高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のジルコニウム材料をお探しですか?当社の手頃な価格の製品には、お客様固有の要件に合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどが含まれます。今すぐご連絡ください。
銅ニッケルインジウム合金(CuNiIn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の銅ニッケルインジウム材料をお探しですか?当社の手頃な価格の製品には、お客様のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズが用意されています。当社のスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどをご覧ください。
高純度酸化ジルコニウム(ZrO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
お客様のニーズに合わせた高品質の酸化ジルコニウム (ZrO2) 材料を入手してください。スパッタリングターゲットやパウダーなど、さまざまな形状やサイズを手頃な価格で提供しています。
硫化亜鉛(ZnS)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた硫化亜鉛 (ZnS) 材料を手頃な価格で入手できます。当社は、さまざまな純度、形状、サイズの ZnS 材料を製造およびカスタマイズします。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを幅広い選択肢からお選びいただけます。
熱管理用の CVD ダイヤモンド: 熱伝導率が最大 2000 W/mK の高品質ダイヤモンドで、ヒート スプレッダー、レーザー ダイオード、GaN on Diamond (GOD) アプリケーションに最適です。
クロムニッケル合金(CrNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質のクロム ニッケル合金 (CrNi) 材料をお探しですか?専門的に作られ、カスタマイズされた当社のオプション以外に探す必要はありません。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどを含む、当社の幅広いサイズと仕様をご覧ください。今すぐお買い物してください!
高純度酸化亜鉛(ZnO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす最高品質の酸化亜鉛 (ZnO) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家チームは、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを含む、さまざまな純度、形状、サイズの特注材料を製造します。今すぐお買い物してください!
ニッケルクロム合金(NiCr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のニッケル クロム合金 (NiCr) 材料を手頃な価格で入手できます。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなど、幅広い形状とサイズからお選びいただけます。お客様固有の要件に合わせてカスタマイズします。
ジルコニアセラミックロッド - 安定化イットリウム精密機械加工
ジルコニアセラミックロッドは静水圧プレスによって製造され、高温かつ高速で均一で緻密で滑らかなセラミック層と転移層が形成されます。
高純度アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
高品質の AZO 材料をお探しですか?当社のラボグレードのアルミニウムドープ酸化亜鉛製品は、スパッタリングターゲット、粉末などを含むお客様の正確な仕様に合わせて調整されます。今すぐ注文。
電子ビーム蒸着コーティングタングステンるつぼ/モリブデンるつぼ
タングステンおよびモリブデンのるつぼは、その優れた熱的特性と機械的特性により、電子ビーム蒸着プロセスでよく使用されます。
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用のセレン化亜鉛 (ZnSe) 材料をお探しですか?手頃な価格と専門的にカスタマイズされたオプションにより、当社は完璧な選択肢となります。幅広い仕様とサイズを今すぐチェックしてください。
高純度バナジウム(V)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質バナジウム (V) 材料をお探しですか?当社は、スパッタリング ターゲット、パウダーなど、お客様の独自のニーズに合わせてカスタマイズ可能なオプションを幅広く提供しています。競争力のある価格については、今すぐお問い合わせください。
関連記事
薄膜堆積における蒸着技術とスパッタリング技術の比較研究
薄膜の堆積に使用される最も一般的な 2 つの技術は、蒸着とスパッタリングです。
冷間静水圧プレス: 概要とその産業用途
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
電極固定具ガイド:種類、設計、用途
様々なタイプ、設計上の考慮点、電気メッキ、溶接、電気化学セルなどの産業における不可欠な役割を網羅した、電極固定具の包括的なガイドをご覧ください。
冷間静水圧プレスサービスの詳細な分析
冷間静水圧プレス (CIP) サービスは、製品または冷間圧縮粉末を滅菌するために非常に高い圧力を利用します。 CIP は、複雑な形状を作成し、材料の最終密度を高めるのに特に効果的です。
ジルコニア・セラミック材料の包括的概要
ジルコニアセラミックスの特性、歴史、調製、成形、焼結、用途などを詳しく解説。