蒸着、特にCVD（Chemical Vapor Deposition：化学的気相成長）は化学的プロセスである。
これは、基板上に固体材料を形成する化学反応を伴うからである。
理解すべき4つのポイント
1.関与する化学反応
CVDでは、まず化学反応ガスの混合物または前駆体が基板に接触します。
この前駆体は気体、液体、固体の形態があり、加熱されると化学反応を起こし、反応性の蒸気が発生する。
この反応には通常、蒸気の原子や分子への分解、および／または反応チャンバー内に存在する他の物質との相互作用が含まれる。
この化学変化は、基板上に固体材料を析出させるために非常に重要である。
2.成膜のメカニズム
CVDの成膜プロセスは、通常3つの主要ステップに分けられる：
揮発性化合物の蒸発： 蒸着する物質の化合物である前駆体を蒸発させる。
このステップにより、反応物質が気相状態になり、その後の化学反応に備えることができる。
熱分解および/または化学反応： 蒸気は熱分解を受けるか、基材表面で他の物質と反応する。
この段階で実際の化学変化が起こり、新しい化学種が形成される。
反応生成物の堆積： これらの化学反応の不揮発性生成物が基材上に堆積し、固体膜を形成する。
この膜は、気相で起こった化学反応の結果である。
3.化学反応の条件
高温（約1000℃）やさまざまな圧力（数torrから大気圧以上）を使用するなど、CVDの動作条件は、これらの化学反応を促進するように設計されている。
これらの条件は、前駆体の効率的な分解と、それに続く所望の固体材料の形成に極めて重要である。
4.レビューと訂正
提供された情報は、CVDにおける成膜プロセスの化学的性質を正確に記述している。
プロセスの記述に事実と異なる点はなく、CVDにおける固体膜形成の中心が化学反応であることを明確に示している。
したがって、この解答は正しく、修正の必要はありません。
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