単一原子の炭素膜であるグラフェンは、化学気相成長法（CVD）と呼ばれる方法で製造される。
このプロセスでは、金属基板上で炭化水素ガスを高温で分解する。
これにより、グラフェンの厚さと品質を精密に制御することができる。
CVDでグラフェンはどのように作られるのか？(5つの主要ステップ）
1.金属基板の準備
銅、白金、イリジウムなどの金属基板を高温炉に入れる。
2.炭化水素ガスの導入
メタンやエチレンなどの炭化水素ガスを反応室に導入する。
1000℃前後の温度で個々の炭素原子に分解する。
3.グラフェンの形成
炭素原子は金属表面に結合し、グラフェンの連続膜へと成長する。
金属基板は触媒として働き、反応のエネルギー障壁を下げ、グラフェンの形成を促進する。
4.制御パラメータ
グラフェンの厚さと質は、ガス流量、温度、ガスにさらす時間などのパラメーターを調整することで制御できる。
5.グラフェンの移動
一旦形成されたグラフェンは、金属基板から分離し、様々な用途のために他の基板に移すことができる。
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