ブログ 実験炉の機能と仕様の比較: ガイド
実験炉の機能と仕様の比較: ガイド

実験炉の機能と仕様の比較: ガイド

1 year ago

実験炉とは

実験炉は、実験室や研究施設で材料を高温に加熱するために使用される特殊な加熱装置です。

実験用炉は通常、工業用炉よりも小さくコンパクトで、実験室環境で使用するように設計されています。実験台に簡単に設置できるベンチトップ モデルもあれば、大規模な用途向けの自立型またはウォークイン モデルも可能です。

利用可能な実験用炉にはさまざまな種類があり、それぞれに独自の機能と仕様があります。実験用炉を選択する際に考慮すべき一般的な機能と仕様には、温度範囲、加熱速度、温度安定性、チャンバーサイズ、温度制御などがあります。

一部の炉には、統合ガス システムや正確な温度制御のためのプログラマブル コントローラーなどの追加機能が備わっている場合もあります。

使用されている実験炉

これらの炉は、アニーリング、ベーキング、硬化、溶媒除去、滅菌などのさまざまな用途に使用できます。これらは冶金、セラミックス、材料科学の分野でよく使用されます。

実験室炉は、材料を高温に加熱するためにさまざまな産業や研究用途で使用されています。実験室炉の一般的な使用例としては、次のようなものがあります。

  • 材料科学: 実験炉は、材料科学で材料の特性や挙動を研究するために材料を高温に加熱するためによく使用されます。これには、アニーリング、焼結、その他の熱処理プロセスが含まれる場合があります。
  • 水処理: 実験炉は水処理に使用され、水を高温に加熱して殺菌し、存在する細菌やその他の汚染物質を死滅させます。
  • 環境科学: 実験用炉は、環境科学において、土壌や水のサンプルなどの分析用サンプルを加熱して、化学組成を研究するために使用されます。
  • 化学産業: 実験炉は、化学産業で、新しい化合物の合成や既存の化合物の精製などの化学反応のために材料を加熱するために使用されます。
  • 金属処理: 実験炉は、金属処理業界で、アニーリング、硬化、焼き戻しなどのさまざまなプロセスで金属を加熱するために使用されます。
  • エレクトロニクス: 実験炉は、エレクトロニクス産業で、半導体、電子部品、その他の電子デバイスの製造用の材料を加熱するために使用されます。
  • 農業生物学: 実験炉は、農業生物学業界で、種子サンプルや植物組織などの研究および分析用の材料を加熱するために使用されます。

全体として、実験炉は、材料を高温に加熱するために幅広い産業や研究用途で使用される多用途ツールです。

実験炉の設計

実験室炉には、さまざまな目的や用途に応じてさまざまなスタイルや設計が存在します。実験用炉の主なタイプには次のようなものがあります。

  • アッシング炉: アッシング炉は、1 つ以上の成分が燃焼する際の化合物の重量の変化を測定するために使用されます。これらは、石炭、ゴム、プラスチック、穀物の材料分析によく使用されます。
  • ボックス型炉: ボックス型炉はアッシング炉やマッフル炉よりも大きく、原材料の金属、プラスチック、電子機器などのバルク サンプルの処理に使用されます。多くの場合、外面温度を下げるための二重壁構造と、サンプルの出し入れを容易にするための開き戸が付いています。
  • マッフル炉: マッフル炉は、より速い昇温速度を可能にするセラミックファイバー断熱材を備えたボックス炉の一種です。これらは一般に、重量分析、小さな有機物の焼結、定量分析、およびサンプルの揮発性研究に使用されます。
  • 管状炉: 管状炉は、不活性雰囲気中で少量のサンプルを加熱するために設計されています。多くの場合、サンプリング チャンバーを異なる温度勾配に分割するための 3 ゾーン制御が備えられており、サンプルの粘度試験、校正、熱膨張、結晶成長に使用されます。

全体として、選択する実験炉のタイプは、加熱する必要があるサンプルのサイズと種類、必要な温度範囲と加熱速度、必要な追加の機能や機能など、研究またはアプリケーションの特定の要件によって異なります。 。

実験炉の最高温度

実験室炉の最高温度は、炉の特定のモデルと設計によって異なります。一般に、実験室炉は 100 °C から 1,700 °C もの高温に達することができます。最高温度が 975°C の炉もあれば、最高 1,700°C の温度に到達できる炉もあります。

ほとんどの実験室炉には、炉の温度を特定の範囲内に調整するために使用できるプログラマブル ロジック コントローラー (PLC) が付属しています。これにより、ユーザーは希望の温度を設定し、加熱プロセス全体を通じて炉が自動的にその温度を維持できるようになります。

実験室用オーブンは実験室用炉に似ていますが、通常は 350°C を超える温度に達するように設計されていないことに注意することが重要です。オーブンは通常、サンプルのアニーリング、硬化、ベーキングに使用されますが、高温を必要とする用途には適していません。

コントロールとプログラム

実験室炉には通常、ユーザーが研究や用途に合わせて特定の温度プロファイルを設定および維持できるようにするための、さまざまな制御およびプログラミング オプションが付属しています。一般的な炉制御およびプログラムには次のようなものがあります。

  • マルチプログラム炉: これらの炉には、それぞれ複数のセグメントを持つ最大 25 の異なるプログラムを保存できるコントローラーが付属しています。これにより、ユーザーは複数の加熱および冷却ステージを含む複雑な温度プロファイルを作成できます。
  • マルチセグメント炉: これらの炉を使用すると、ユーザーは各プログラムを個別のランプ時間 (加熱または冷却) と滞留時間にセグメント化できます。プログラム パターンは時間またはレートで定義でき、プログラムは 999 サイクル繰り返し可能です。
  • 簡素化された設定値炉: これらの炉には、指定された温度までの単一セグメントのランプを要求するプロトコルをサポートするコントローラーが付属しています。
  • シングル プログラム ファーネス: これらのファーネスには、保存されたプログラムのデータベースが含まれていないコントローラーが付属していますが、高度な加熱プロトコル用の複数のセグメントをサポートしています。
  • シングルセグメント炉: これらの炉には、指定された温度までのシングルセグメントランプを定義する手順をサポートするコントローラーが付属していますが、異なるサンプルタイプに対して複数の保存されたプログラムをサポートする場合があります。

全体として、選択する炉制御およびプログラムのタイプは、研究またはアプリケーションの特定の要件、および炉プログラミングの経験レベルによって異なります。一部の炉にはより高度な制御およびプログラミング オプションがあり、他の炉にはよりシンプルで使いやすいものもあります。

電圧

実験用炉の電圧とは、炉を動作させるために必要な電力を指します。米国では、実験用炉は通常、120 ボルト、208 ボルト、240 ボルトの 3 つの異なる電圧オプションで利用できます。

120 ボルト接続は、米国の標準的な研究室用電源コンセントでの使用に適しています。この電圧は、小型の炉や高電力レベルを必要としないアプリケーションによく使用されます。

208 ボルトまたは 240 ボルトの接続では、120 ボルトで動作するように設計された機器よりも少ない電流 (アンペア数) と小さな導体が必要です。これらの高電圧接続は、大型の炉や、より高い電力レベルを必要とするアプリケーションによく使用されます。

容量

実験室炉の容量は、サンプルチャンバーのサイズ、または一度に加熱できる材料の量を指します。実験室炉は、二重壁設計と断熱性により、通常、実験室オーブンよりも小さなサンプルチャンバーを備えています。

一般的な実験室炉の容量は 0.2 立方フィートから 10 立方フィートの範囲です。選択する炉のサイズは、加熱する必要があるサンプルのサイズと量、および研究や用途の特定の要件によって異なります。

ニーズに合わせて適切な容量の炉を選択することが重要です。小さすぎる炉を使用すると、加熱が不十分になったり、複数のバッチでサンプルを処理する必要が生じたりする可能性があります。一方、大きすぎる炉を使用すると、非効率になり、不必要にコストがかかる可能性があります。

特別な機能

一部の実験室炉では、性能を向上させたり、特定の用途により適したものにしたりできる特別な機能がいくつかあります。一般的な特殊炉の機能には次のようなものがあります。

  • 過熱保護: この機能は、設定温度に達すると電源を遮断することで、コントローラーの故障時に炉と電気負荷を保護するように設計されています。
  • RS-232 ポート: 一部のファーネスには RS-232 ポートが搭載されており、ファーネスとプリンターまたはコンピューター間の双方向通信が可能になります。これは、データのログ記録や炉のリモート制御に役立ちます。
  • ガス流量計: 一部の炉には、窒素やアルゴンなどの不活性ガスでサンプル チャンバーをパージするために使用できる調整可能なガス流量計が付属しています。これは、不活性雰囲気を必要とする用途に役立ちます。

実験炉の選び方

実験室や研究施設に適した実験室炉を選択する際には、考慮すべき要素がいくつかあります。考慮すべき主な要素には次のようなものがあります。

  • 温度範囲: 研究や用途に適した温度範囲の炉を選択してください。到達する必要がある最高温度と最低温度、炉の加熱速度と温度安定性を考慮してください。
  • チャンバーサイズ: 加熱する必要があるサンプルのサイズと量を考慮し、適切な容量の炉を選択してください。
  • 温度制御: プログラマブル ロジック コントローラー (PLC) など、信頼性が高く正確な温度制御システムを備えた炉を探してください。複数のプログラムやセグメントなど、高度な制御やプログラミング オプションが必要かどうかを検討してください。
  • 安全機能: 熱損失を防ぎ、事故のリスクを軽減するために、過熱保護、保護コーティング、断熱などの安全機能を備えた炉を探してください。
  • 特殊機能: データロギング用の RS-232 ポートや不活性ガスでサンプルチャンバーをパージするためのガス流量計など、必要な特殊機能を検討してください。

全体として、お客様のニーズに適した実験炉は、研究や用途の特定の要件、予算、必要な追加の機能や機能によって異なります。

無料相談はお問い合わせください

KINTEK LAB SOLUTION の製品とサービスは、世界中のお客様に認められています。弊社スタッフがどんなご質問にも喜んで対応させていただきます。無料相談にお問い合わせいただき、製品スペシャリストにご相談いただき、アプリケーションのニーズに最適なソリューションを見つけてください。

関連製品

水素雰囲気炉

水素雰囲気炉

KT-AH 水素雰囲気炉 - 安全機能、二重シェル設計、省エネ効率を備えた焼結/アニーリング用誘導ガス炉です。研究室や産業での使用に最適です。

マルチゾーン管状炉

マルチゾーン管状炉

当社のマルチゾーン管状炉を使用して、正確で効率的な熱試験を体験してください。独立した加熱ゾーンと温度センサーにより、制御された高温勾配加熱フィールドが可能になります。高度な熱分析を今すぐ注文してください。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

モリブデン真空炉

モリブデン真空炉

遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

研究室用真空傾斜回転管炉

研究室用真空傾斜回転管炉

実験用回転炉の多用途性を発見してください。か焼、乾燥、焼結、高温反応に最適です。最適な加熱を実現する調整可能な回転および傾斜機能。真空および制御された雰囲気環境に適しています。今すぐ詳細をご覧ください。

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉

1200℃マッフル炉でラボをグレードアップ。日本製アルミナファイバーとモリブデンコイルにより、高速で正確な加熱を実現します。TFTタッチスクリーンコントローラーにより、プログラミングとデータ解析が容易です。ご注文はこちらから!

真空密閉式連続稼働回転式管状炉

真空密閉式連続稼働回転式管状炉

当社の真空密閉回転管状炉で効率的な材料処理を体験してください。制御された供給と最適な結果を実現するオプション機能を装備しており、実験や工業生産に最適です。今すぐ注文。

お客様製汎用CVD管状炉CVD装置

お客様製汎用CVD管状炉CVD装置

KT-CTF16 カスタマーメイド多用途炉であなただけの CVD 炉を手に入れましょう。カスタマイズ可能なスライド、回転、傾斜機能により、正確な反応を実現します。今すぐ注文!

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉

歯科用真空プレス炉を使用して、正確な歯科結果を取得します。自動温度校正、低騒音トレイ、タッチスクリーン操作。今すぐ注文!

1200℃ 制御雰囲気炉

1200℃ 制御雰囲気炉

KT-12Aプロ制御雰囲気炉は、高精度で頑丈な真空チャンバー、多用途でスマートなタッチスクリーン制御装置、最高1200℃までの優れた温度均一性を備えています。実験室および工業用途に最適です。

1700℃ 制御雰囲気炉

1700℃ 制御雰囲気炉

KT-17A制御雰囲気炉:1700℃加熱、真空シール技術、PID温度制御、多用途TFTスマートタッチスクリーン制御装置、実験室および工業用。

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

マルチヒートゾーンCVD管状炉CVD装置

KT-CTF14 マルチ加熱ゾーン CVD 炉 - 高度なアプリケーション向けの正確な温度制御とガス流量。最高温度1200℃、4チャンネルMFC質量流量計、7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを搭載。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。


メッセージを残す