蒸発技術に使用される材料には、主に純金属、アンチモン化物、ヒ素化物、ホウ化物、炭化物、フッ化物、窒化物、酸化物、セレン化物、ケイ化物、硫化物、テルル化物などがある。これらの材料は、光学、航空宇宙、太陽電池製造、医療機器製造などのさまざまな産業で重要な、蒸発のプロセスを通じて表面に薄膜やコーティングを形成する能力のために選ばれます。
純金属： 例えば、金、銀、チタン、タングステン、銅など。これらの金属は、その高い導電性、耐久性、耐腐食性により、しばしば使用される。例えば、金はその優れた反射率と耐酸化性から、光学コーティングによく使用される。
酸化物： 二酸化ケイ素はその一般的な例で、その絶縁特性と環境破壊から下層を保護する能力から、半導体産業で広く使用されている。
窒化物： 窒化チタンのような材料は、その硬度と耐摩耗性から、耐久性のあるコーティングを必要とする用途に適しています。
硫化物： 例えば硫化カドミウムは、その半導体特性から太陽電池に使用されている。
フッ化物： フッ化マグネシウムのような材料は、屈折率が低いため反射を抑えることができ、光学用途に使用される。
蒸発プロセスは通常、汚染を防ぎ、目的の材料のみが基板上に薄膜を形成するようにするため、真空チャンバー内で行われる。材料は気化するまで高温に加熱され、蒸気は基板上で凝縮して薄膜を形成する。この工程は、最終製品の性能にとって重要なコーティングの正確な厚みと均一性を達成するために制御される。
蒸発材料の形状は、チャンク、フォイル、ペレット、ワイヤー、ロッド、ショット、スラグなどさまざまで、蒸発技術の特定の要件や必要なコーティングの種類によって異なります。形状の選択は、蒸発速度と蒸着膜の均一性に影響する。
一般的な熱蒸発法には、抵抗加熱蒸発法、電子ビーム蒸発法、フラッシュ蒸発法、誘導加熱蒸発法などがある。それぞれの方法には利点があり、材料特性とコーティングプロセスの望ましい結果に基づいて選択される。
要約すると、蒸発材料は多様であり、その特定の特性とアプリケーションの要件に基づいて選択される。これらの材料の純度レベルは、コーティングの品質と性能を保証するために、一般的に99.9％から99.99999％までと非常に高い。
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