熱蒸着は、基板上に薄膜を蒸着するために使用される物理蒸着（PVD）技術である。
この方法では、材料が気化するまで高真空環境で加熱する。
その後、気化した分子が基板上で凝縮し、薄膜が形成されます。
熱蒸着法とは？(4つの主要ステップ）
1.高真空環境
プロセスは真空チャンバー内で開始される。
これは蒸着中のガス粒子による干渉を防ぐために不可欠である。
真空は真空ポンプによって維持され、ソース材料周辺の圧力が低くなるようにする。
これにより蒸発の効率が高まる。
2.材料の加熱
蒸発源として知られる蒸着される材料は、タングステンやモリブデンなどの耐火性材料でできたるつぼやボートに入れられます。
この容器は、通常はジュール加熱によって、材料が気化するのに十分な高温まで加熱される。
3.蒸気輸送と凝縮
気化した分子は、真空中を移動して基板に到達する。
冷却された基板に接触すると、蒸気が凝縮し、薄膜が形成される。
このプロセスを繰り返すことで、薄膜をさらに成長させ、核とすることができる。
4.汎用性
熱蒸着は汎用性があり、アルミニウム、銀、ニッケルなどの金属を含む幅広い材料を蒸着することができる。
この多用途性とプロセスの簡便性により、熱蒸着は実験室と産業現場の両方で人気のある選択肢となっています。
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