物理的気相成長法（PVD）は、高温真空条件下で気化した固体物質を凝縮させ、基板上に薄膜やコーティングを成膜するプロセスである。
PVDの生成物は、高温耐性と基板への強力な接着力を持つ、薄く硬い耐腐食性コーティングである。
5つのポイント
1.プロセスの概要
PVDにはいくつかの重要な工程がある。
気化： 通常、高出力電気またはレーザー加熱により、固体の前駆物質を蒸気に変える。
輸送： 気化した材料は、ソースから基板まで低圧領域を移動する。
凝縮： 蒸気が基板上で凝縮し、薄膜またはコーティングを形成する。
2.使用される技術
スパッタリング： 最も一般的な方法で、イオン砲撃によってターゲット材料から原子を放出させ、基板上に堆積させる。
蒸発法： あまり一般的ではないが、ソース材料を熱蒸発させ、その後基板上に蒸着させる。
3.製品の特性
硬度と耐食性： PVDコーティングは、その耐久性と耐摩耗性、耐腐食性で知られており、自動車、航空宇宙、電子機器など様々な産業での用途に最適です。
高温耐性： PVDコーティングは、高温にも劣化せずに耐えることができるため、耐熱性を必要とする用途に適しています。
密着性 PVDコーティングは基材と強固に密着するため、剥離や剥離のリスクを低減します。
4.環境への配慮
PVDは、有害な化学物質を使用せず、廃棄物も最小限に抑えられるため、環境に優しいプロセスと考えられています。
5.用途とバリエーション
PVDは、純金属、合金、セラミックの成膜など、さまざまな用途に使用できます。
PVDの主な種類には、真空蒸着法、熱蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などがあり、それぞれ材料を気化させて蒸着させる特定のメカニズムを持っています。
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