知識 真空ポンプの最大圧力とは?研究室のニーズに合わせた究極の真空を理解する
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 17 hours ago

真空ポンプの最大圧力とは?研究室のニーズに合わせた究極の真空を理解する


技術的に言えば、真空ポンプの性能は「最大圧力」ではなく、到達可能な最低圧力によって測定されます。空気に開放されたシステムにおける最大圧力は単に大気圧であり、ポンプの役割はその開始点から可能な限り低いレベルまで圧力を下げることです。

真空ポンプにとって重要な指標は、その究極の真空です。これは、理想的な条件下で生成できる最低圧力であり、作成できる真空の「強さ」または品質を決定します。

「最低圧力」が主要な指標である理由

真空とは、周囲の大気圧よりもはるかに低いガス圧の空間のことです。真空ポンプは、密閉されたチャンバーからガス分子を除去して、この圧力差を作り出すことで機能します。

出発点:大気圧

ポンプをオンにする前のチャンバー内の圧力は大気圧です。これはシステムが経験する最高の圧力であり、海面では約101,325パスカル(Pa)または760トルです。

目標:圧力の低減

ポンプの唯一の目的は、この圧力を下げることです。したがって、その性能は、ガス分子をどれだけ効果的に除去し、内部圧力をどれだけ低くできるかによって定義されます。この最低点が、その究極圧力または究極の真空です。

真空ポンプの最大圧力とは?研究室のニーズに合わせた究極の真空を理解する

真空レベルと単位の理解

異なる用途には、異なる品質の真空が必要です。この品質は、達成される圧力の範囲によって分類されます。

一般的な圧力単位

真空システムにおける圧力は、いくつかの単位で測定されます。国際標準(SI)単位はパスカル(Pa)です。もう1つの一般的な単位はトルで、760トルは1標準気圧に相当します。

真空品質の分類

真空レベルは通常、低真空から超高真空まで分類されます。

  • 粗引き/低真空:100,000 Paから100 Pa
  • 中真空:100 Paから0.1 Pa
  • 高真空(HV):0.1 Paから10⁻⁵ Pa
  • 超高真空(UHV):10⁻⁵ Pa未満

異なる圧力に対応する異なるポンプ

単一のポンプで真空の全範囲をカバーすることはできません。ポンプの種類によって、達成できる究極の圧力が決まります。

粗引き真空ポンプ

これらのポンプは、ろ過、脱気、より強力なシステムの補助ポンプとしてなど、極端に低い圧力を必要としない用途に使用されます。循環水真空ポンプ(または水アスピレーター)が一般的な例です。前述のとおり、その究極の真空は通常2,000~4,000 Paの範囲であり、粗引き真空のカテゴリにしっかりと位置付けられます。

高真空および超高真空ポンプ

高真空または超高真空を達成するには、より洗練された技術が必要です。ターボ分子ポンプクライオポンプのようなポンプは、単純な水ポンプよりも数百万倍低い圧力を達成でき、10⁻⁸ Pa以下のレベルに到達します。これらは、高感度な科学機器、半導体製造、粒子加速器に必要とされます。

トレードオフの理解

ポンプの仕様書に記載されている究極の圧力は、完璧な条件下で達成される理論上の最大値です。

理想的な性能と実世界の性能

実際には、達成できる実際の真空はシステム全体に依存します。シールの漏れ、チャンバー壁から放出されるガス分子(アウトガス)、および排気されるガスの種類はすべて、最終的な圧力を制限します。

排気速度と究極の圧力

ポンプの排気速度(単位時間あたりに除去できるガスの量)も重要です。ポンプは非常に低い究極の圧力に到達できるかもしれませんが、チャンバー容積に対して速度が低すぎると、そこに到達するまでに非現実的に長い時間がかかります。

目標に合った適切な選択をする

ポンプの選択には、その究極の圧力能力をアプリケーションのニーズに合わせる必要があります。

  • 主な焦点が一般的な実験室でのろ過または乾燥である場合:水アスピレーターやダイヤフラムポンプ(1,000~10,000 Pa)のような粗引き真空ポンプで十分であり、費用対効果も高いです。
  • 主な焦点が質量分析計のような分析機器の操作である場合:粗引きポンプとターボ分子ポンプを組み合わせた高真空システム(10⁻⁴ Pa以下)が必要になります。
  • 主な焦点が表面科学研究または半導体製造である場合:アウトガスを最小限に抑えるための特殊なポンプと材料を備えた超高真空(UHV)システム(10⁻⁷ Pa未満)が必要です。

最終的に、真空ポンプの能力が達成できる最低圧力にあることを理解することが、作業に適したツールを選択するための鍵となります。

要約表:

真空レベル 圧力範囲(パスカル) 一般的な用途
粗引き/低真空 100,000 Paから100 Pa ろ過、脱気、乾燥
中真空 100 Paから0.1 Pa 凍結乾燥、基礎研究
高真空(HV) 0.1 Paから10⁻⁵ Pa 質量分析、分析機器
超高真空(UHV) 10⁻⁵ Pa未満 半導体製造、表面科学

研究室に最適な真空ポンプの選択でお困りですか? KINTEKの専門家は、実験装置と消耗品を専門としており、ろ過用の粗引き真空が必要な場合でも、高感度機器用の超高真空が必要な場合でも、お客様の特定の用途に最適な真空ポンプを見つけるお手伝いをいたします。今すぐお問い合わせください。お客様の要件について話し合い、研究室の最適なパフォーマンスを確保いたします!

ビジュアルガイド

真空ポンプの最大圧力とは?研究室のニーズに合わせた究極の真空を理解する ビジュアルガイド

関連製品

よくある質問

関連製品

研究室および産業用循環水真空ポンプ

研究室および産業用循環水真空ポンプ

効率的なラボ用循環水真空ポンプ - オイルフリー、耐腐食性、静かな運転音。複数のモデルをご用意しています。今すぐお求めください!

研究・産業用オイルフリーダイアフラム真空ポンプ

研究・産業用オイルフリーダイアフラム真空ポンプ

ラボ用オイルフリーダイアフラム真空ポンプ:クリーン、高信頼性、耐薬品性。ろ過、SPE、回転蒸発に最適。メンテナンスフリー。

ロータリーベーン真空ポンプ

ロータリーベーン真空ポンプ

UL 認定のロータリーベーン真空ポンプで、高い真空排気速度と安定性を体験してください。 2 シフト ガス バラスト バルブと二重オイル保護。メンテナンスや修理が簡単。

電気真空ヒートプレス

電気真空ヒートプレス

電気式真空ヒートプレスは、真空環境で作動する特殊なヒートプレス装置で、高度な赤外線加熱と精密な温度制御を利用し、高品質、頑丈で信頼性の高い性能を実現しています。

真空ボックス用ラボペレットプレス

真空ボックス用ラボペレットプレス

真空ボックス用ラボプレスでラボの精度を高めましょう。真空環境で錠剤や粉末を簡単かつ正確にプレスし、酸化を抑えて安定性を向上させます。コンパクトで使いやすく、デジタル圧力計も付いています。

真空箱のための手動実験室の餌の出版物

真空箱のための手動実験室の餌の出版物

真空ボックス用ラボプレスは、実験室用に設計された特殊な装置です。その主な目的は、特定の要件に従って錠剤や粉末をプレスすることです。

割れた自動熱くする実験室の餌出版物 30T/40T

割れた自動熱くする実験室の餌出版物 30T/40T

材料研究、薬学、セラミックス、エレクトロニクス産業での精密な試料作製に最適なスプリット式自動加熱ラボプレス30T/40Tをご覧ください。設置面積が小さく、最高300℃まで加熱可能なため、真空環境下での加工に最適です。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

304/316 高真空システム用ステンレス鋼真空ボールバルブ/ストップバルブ

304/316 高真空システム用ステンレス鋼真空ボールバルブ/ストップバルブ

304/316ステンレス鋼真空ボールバルブを発見、高真空システムに最適、正確な制御と耐久性を保証します。今すぐ検索

セラミックファイバーライナー付き真空炉

セラミックファイバーライナー付き真空炉

多結晶セラミックファイバー断熱ライナーを備えた真空炉で、優れた断熱性と均一な温度場を実現。最高使用温度は1200℃または1700℃から選択でき、高真空性能と精密な温度制御が可能です。

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレス

真空ラミネーションプレスでクリーンで正確なラミネーションを体験してください。ウェハーボンディング、薄膜変換、LCPラミネーションに最適です。今すぐご注文ください!

2200 ℃グラファイト真空炉

2200 ℃グラファイト真空炉

最高使用温度2200℃のKT-VG黒鉛真空炉は、様々な材料の真空焼結に最適です。詳細はこちら

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

超高真空のフランジの航空プラグのガラスは気密の円のコネクター KF/ISO/CF を焼結させました

超高真空のフランジの航空プラグのガラスは気密の円のコネクター KF/ISO/CF を焼結させました

航空宇宙および半導体用途で優れた気密性と耐久性を発揮する超高真空CFナイフエッジフランジアビエーションプラグをご覧ください。

真空歯科用磁器焼結炉

真空歯科用磁器焼結炉

KinTek の真空磁器炉を使用すると、正確で信頼性の高い結果が得られます。すべての磁器粉末に適しており、双曲線セラミック炉機能、音声プロンプト、および自動温度校正を備えています。

縦型高温黒鉛化炉

縦型高温黒鉛化炉

最高 3100℃ までの炭素材料の炭化および黒鉛化を行う縦型高温黒鉛化炉。炭素環境で焼結された炭素繊維フィラメントおよびその他の材料の成形黒鉛化に適しています。冶金学、エレクトロニクス、航空宇宙分野で、次のような高品質の黒鉛製品を製造する用途に使用できます。電極とるつぼ。

2200℃タングステン真空炉

2200℃タングステン真空炉

当社のタングステン真空炉で究極の高融点金属炉を体験してください。 2200℃まで到達可能で、先端セラミックスや高融点金属の焼結に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

モリブデン真空炉

モリブデン真空炉

遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。


メッセージを残す