知識 RFスパッタリングとは?5つのポイントを解説
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 1 month ago

RFスパッタリングとは?5つのポイントを解説

RFスパッタリング(高周波スパッタリング)は、薄膜、特に非導電性材料への成膜に用いられるプロセスである。

この技術では、高周波を使用して不活性ガスをイオン化し、正イオンを生成してターゲット材料に浴びせる。

その後、ターゲット材料は微細なスプレーに分解され、基板をコーティングして薄膜を形成する。

5つのポイント

RFスパッタリングとは?5つのポイントを解説

1.不活性ガスのイオン化

RFスパッタリングでは、アルゴンなどの不活性ガスを真空チャンバー内に導入する。

通常13.56MHzの高周波が、ガスをイオン化するために使用される。

このイオン化プロセスにより、ガス原子から正イオンが生成される。

2.ターゲット物質への照射

正イオンは、高周波によって作られた電界によって、ターゲット物質に向かって加速される。

これらのイオンがターゲットに衝突すると、運動量の移動によりターゲットから原子や分子が放出(スパッタリング)される。

3.基板への蒸着

ターゲットからスパッタされた材料は、近くの基板上に薄膜を形成する。

この基板は通常、真空チャンバー内でターゲットと反対側に置かれる。

このプロセスは、所望の膜厚になるまで続けられる。

4.非導電性材料の利点

RFスパッタリングは、非導電性材料への薄膜成膜に特に適している。

RF波の交番電位は、直流(DC)スパッタリングで一般的な問題であるターゲットへの電荷蓄積を防ぐ。

この電荷蓄積の欠如により、アーク放電が回避され、より均一で制御された成膜プロセスが保証される。

5.応用例

RFスパッタリングは、エレクトロニクス、半導体、光学など、精密な薄膜コーティングを必要とする産業で広く使用されている。

また、特定の特性を持つ新素材やコーティングを作り出すための研究開発にも利用されている。

このスパッタリング法は、特に導電性でない材料に制御された効率的な薄膜を成膜する方法を提供し、様々な技術応用において貴重な技術となっています。

さらに詳しく、当社の専門家にご相談ください。

KINTEKのRFスパッタリングソリューションで薄膜成膜の精度を向上させましょう!

材料科学プロジェクトを次のレベルに引き上げる準備はできていますか?

KINTEKの高度なRFスパッタリング技術は、導電性基板と非導電性基板の両方に薄膜を蒸着する際に、比類のない精度と効率を実現するように設計されています。

KINTEKの最先端システムは、均一なコーティングを実現し、電子機器、半導体、光学部品の性能を向上させます。

KINTEKの違いを体験し、研究・生産プロセスを今すぐ変革してください。

当社の革新的なソリューションと、それがお客様の特定のアプリケーションにどのようなメリットをもたらすかについては、当社までお問い合わせください!

関連製品

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF PECVD システム 高周波プラズマ化学蒸着

RF-PECVD は、「Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition」の頭字語です。ゲルマニウムおよびシリコン基板上にDLC(ダイヤモンドライクカーボン膜)を成膜します。 3~12umの赤外線波長範囲で利用されます。

フッ化ストロンチウム(SrF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化ストロンチウム(SrF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用のフッ化ストロンチウム (SrF2) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社は、スパッタリング ターゲット、コーティングなどを含む、さまざまなサイズと純度を提供しています。手頃な価格で今すぐ注文してください。

フッ化カリウム(KF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

フッ化カリウム(KF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズに応える最高品質のフッ化カリウム (KF) 材料を手頃な価格で入手できます。弊社がカスタマイズした純度、形状、サイズは、お客様固有の要件に適合します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料などを検索します。

高純度ルテニウム(Ru)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度ルテニウム(Ru)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用の高品質ルテニウム材料をご覧ください。お客様の特定のニーズを満たすために、幅広い形状とサイズを提供しています。当社のスパッタリング ターゲット、パウダー、ワイヤーなどをチェックしてください。今すぐ注文!

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉

小型真空タングステン線焼結炉は、大学や科学研究機関向けに特別に設計されたコンパクトな真空実験炉です。この炉は CNC 溶接シェルと真空配管を備えており、漏れのない動作を保証します。クイックコネクト電気接続により、再配置とデバッグが容易になり、標準の電気制御キャビネットは安全で操作が便利です。

高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす高品質のレニウム (Re) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社は、スパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズをカスタマイズして提供します。

高純度ロジウム(Rh)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度ロジウム(Rh)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズに合わせた高品質のロジウム材料を手頃な価格で入手できます。当社の専門家チームは、お客様固有の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズのロジウムを製造およびカスタマイズします。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体など幅広い製品からお選びいただけます。

高純度鉄(Fe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度鉄(Fe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用に手頃な価格の鉄 (Fe) 材料をお探しですか?当社の製品範囲には、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズされた、さまざまな仕様とサイズのスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などが含まれます。今すぐご連絡ください。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

高純度ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす高品質の金素材を手頃な価格で入手できます。当社のカスタムメイドの金素材は、お客様の独自の要件に合わせてさまざまな形状、サイズ、純度で提供されます。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料、ホイル、パウダーなどの製品ラインナップをご覧ください。

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉 SPS炉

スパークプラズマ焼結炉のメリットを発見してください。均一加熱、低コスト、環境に優しい。

プラズマ蒸着PECVDコーティング機

プラズマ蒸着PECVDコーティング機

PECVD コーティング装置でコーティング プロセスをアップグレードします。 LED、パワー半導体、MEMSなどに最適です。低温で高品質の固体膜を堆積します。

高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用の高品質イリジウム (Ir) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社の専門的に製造および調整された材料は、お客様の固有のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズで提供されます。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどの製品ラインナップをご覧ください。今すぐ見積もりを入手してください。

高純度アルミニウム(Al)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度アルミニウム(Al)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質アルミニウム (Al) 材料を手頃な価格で入手できます。当社は、お客様固有のニーズを満たすために、スパッタリング ターゲット、粉末、フォイル、インゴットなどを含むカスタマイズされたソリューションを提供します。今すぐ注文!

高純度カーボン(C)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度カーボン(C)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす手頃な価格のカーボン (C) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社の専門的に製造および調整された素材には、さまざまな形状、サイズ、純度があります。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、パウダーなどからお選びいただけます。

真空誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空誘導溶解炉 アーク溶解炉

真空誘導溶解炉で正確な合金組成を得る。航空宇宙、原子力、電子産業に最適です。金属と合金の効果的な製錬と鋳造のために今すぐご注文ください。

高純度バナジウム(V)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度バナジウム(V)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質バナジウム (V) 材料をお探しですか?当社は、スパッタリング ターゲット、パウダーなど、お客様の独自のニーズに合わせてカスタマイズ可能なオプションを幅広く提供しています。競争力のある価格については、今すぐお問い合わせください。

銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

銅ジルコニウム合金(CuZr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

お客様の独自の要件に合わせた、手頃な価格の銅ジルコニウム合金材料のラインナップをご覧ください。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどの当社のセレクションをご覧ください。

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

真空誘導溶解紡糸装置 アーク溶解炉

当社の真空溶融紡糸システムを使用して、準安定材料を簡単に開発します。アモルファスおよび微結晶材料の研究および実験作業に最適です。効果的な結果を得るには今すぐ注文してください。

電子銃ビームるつぼ

電子銃ビームるつぼ

電子銃ビーム蒸着の場合、るつぼは、基板上に蒸着する材料を入れて蒸着するために使用される容器またはソースホルダーです。

電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ

電子ビーム蒸着黒鉛るつぼ

主にパワーエレクトロニクス分野で使用される技術。炭素原料を電子ビーム技術を用いて材料蒸着により作製したグラファイトフィルムです。

高純度マグネシウム(Mn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度マグネシウム(Mn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす手頃な価格のマグネシウム (Mn) 材料をお探しですか?当社のカスタムサイズ、形状、純度はお客様のニーズに応えます。今すぐ当社の多様なセレクションをご覧ください!

鉄ガリウム合金(FeGa)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

鉄ガリウム合金(FeGa)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験室用の高品質鉄ガリウム合金 (FeGa) 材料を手頃な価格で見つけてください。お客様独自のニーズに合わせて材料をカスタマイズします。豊富な仕様とサイズをチェックしてください!


メッセージを残す