化学気相成長法（CVD）は、いくつかの利点と欠点を持つプロセスである。
CVDの利点
1.非直視下蒸着
他のコーティングプロセスとは異なり、CVDは視線を必要としません。
この機能により、直接アクセスできない表面や複雑な形状の表面にもコーティングすることができます。
このため、様々な産業への応用が可能です。
2.厚膜コーティングの合成
CVDは厚膜コーティングの合成に有利である。
これは、必要なコーティングサイクルの回数を減らすことができるため、経済的に有益である。
時間と資源の節約になる。
3.成膜の柔軟性
このプロセスでは、異なる材料の共蒸着が可能である。
また、プラズマやイニシエーターの使用も可能で、大気圧での操作も可能です。
これにより、材料工学のための多目的なプラットフォームが提供される。
4.均一性と高純度
CVDは、優れた均一性と高純度の薄膜を作ることができる。
これは、精密で一貫した材料特性を必要とする用途に不可欠です。
5.拡張性
このプロセスは、小規模な研究から大規模な工業生産まで拡張可能です。
そのため、さまざまな用途のニーズに適応することができる。
CVDの短所
1.装置と前駆体ガスのコストが高い
CVDには、真空ポンプ、ガスフローコントローラー、高温炉などの高価な装置が必要である。
これらは購入と維持にコストがかかる。さらに、シランやアンモニアのような前駆体ガスを使用するため、高価なだけでなく危険性もあり、経済的にも安全面でも負担が大きい。
