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高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験用資料

高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

商品番号 : LM-HF

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


化学式
Hf
純度
2N5-3N5
ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
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当社は実験室用のハフニウム (Hf) 材料を競争力のある価格で提供しています。当社の専門知識は、さまざまな純度、形状、サイズなど、お客様の特定のニーズを満たすハフニウム (Hf) 材料の製造とカスタマイズにあります。

スパッタリングターゲット(円形、角形、管状、不定形)、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴット、ブロック、もっと。

詳細

ハフニウム (Hf) スパッタリング ターゲット
ハフニウム (Hf) スパッタリング ターゲット
ハフニウム(Hf)ブロック
ハフニウム(Hf)ブロック
ハフニウム (Hf) スパッタリング ターゲット
ハフニウム (Hf) スパッタリング ターゲット
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) 粒子
ハフニウム (Hf) ブロック
ハフニウム (Hf) ブロック
ハフニウム(Hf)スポンジブロック
ハフニウム(Hf)スポンジブロック

ハフニウム(Hf)について

ハフニウムは比較的希少な元素であり、技術的用途は限られています。最も一般的な用途は、中性子を吸収する能力があるため、核制御棒として使用されます。ハフニウムは、鉄、チタン、ニオブ、タンタルなどのさまざまな合金の製造にも使用されます。

ハフニウムベースの合金は、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ (MOSFET) の主要なゲート材料としてポリシリコンに取って代わりつつあります。この置き換えにより、10 オングストローム未満の MOSFET ゲートの開発が可能になりました。最近の研究は、漏れの少ない誘電体バリアまたはゲートとして機能できる High-k 材料の開発に焦点を当てています。

ハフニウムは、ACS グレードから超高純度までのさまざまなレベルの純度の金属や化合物など、さまざまな形態で入手できます。ハフニウムの元素または金属の形態には、蒸発源材料として使用されるペレット、ロッド、ワイヤ、および顆粒が含まれます。ハフニウム ナノ材料は、ナノテクノロジー研究に超高表面積を提供します。

酸化ハフニウムは、光学コーティングや薄膜用途などのさまざまな用途に、粉末および緻密なペレットの形で入手できます。ハフニウムは、塩化物、硝酸塩、酢酸塩などの可溶性の形態や、フッ化物などの不溶性の形態でも入手できます。これらの化合物は、特定の化学量論比で溶液として製造できます。

成分の品質管理

原料組成分析
ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。

非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。
金属組織探傷分析
対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。

金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。
外観・寸法検査
製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。

製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。

従来のスパッタリングターゲットサイズ

準備工程
熱間静水圧プレス、真空溶解など
スパッタリングターゲットの形状
平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
円形スパッタリングターゲットサイズ
直径:25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ:3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。
角型スパッタリングターゲットサイズ
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です

利用可能な金属フォーム

メタルフォームの詳細

当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。

  • 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
  • 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
  • マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
  • マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
  • 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
  • ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
  • その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本

KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 )。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。

包装

当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。

FAQ

高純度材料とは何ですか?

高純度材料とは、不純物が含まれず、化学的均一性が高い物質を指します。これらの材料は、不純物がデバイスの性能に大きな影響を与える可能性があるさまざまな産業、特に先端エレクトロニクスの分野で不可欠です。高純度の材料は、化学精製、気相蒸着、ゾーンリファイニングなどのさまざまな方法で得られます。たとえば、電子グレードの単結晶ダイヤモンドの調製では、所望のレベルの純度および均一性を達成するために、高純度の原料ガスと効率的な真空システムが必要です。

高純度金属とは何ですか?

高純度金属は不純物が最小限に抑えられた単一元素材料であり、先端技術の研究、開発、生産に最適です。これらの金属は、先進的なセラミック、電子センサー、高精度のレンズと光学部品、LED、レーザー、遮熱コーティング、プラズマ スクリーンなどの製造に使用されます。 KINTEK は、研究および商業用途向けに、さまざまな形状、組成、分散、粒径、重量の高純度金属、二元および三元金属化合物を幅広く提供しています。戦略的特殊金属はハイテク用途で使用され、精巧な加工が施されるため高価になる場合があります。

高純度金属は何に使用されますか?

高純度金属は、特定の特性、性能、品質を必要とするさまざまな先進技術で使用されています。これらは、蛍光灯、プラズマ スクリーン、LED、高精度のレンズと光学部品、電子センサー、高度なセラミック、遮熱コーティング、レーザーなどの製造に使用されます。これらの金属は、高品質の磁性材料、熱電材料、蛍光体材料、半導体材料の製造にも使用されます。 KINTEK は、あらゆる研究および商業用途向けに、高純度金属、二元および三元金属化合物、磁性合金、金属酸化物、ナノマテリアル、有機金属前駆体のさまざまな形状、組成、分散、粒子サイズ、重量の多様なポートフォリオを提供しています。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

4.9

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5

Absolutely satisfied with the quality of Hafnium Sputtering Target from KINTEK SOLUTION. The purity level is exceptional and meets our research requirements precisely.

Anahit Nersisyan

4.7

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5

KINTEK's Hafnium Powder has been a game-changer for our lab's nanotechnology research. Its ultra-high surface area has opened up new possibilities for our experiments.

Karim Rajaie

4.8

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5

The Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION arrived promptly and exceeded our expectations. Its consistent quality has ensured reliable results in our thin-film deposition processes.

Milica Vasic

4.6

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Block has proven to be an excellent choice for our sputtering applications. Its high density and purity have contributed to the success of our research.

Daisuke Honda

4.8

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5

We have been thoroughly impressed with the Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION. Their uniform size and purity have enabled us to achieve consistent and precise results in our experiments.

Elif Yildiz

4.9

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Sputtering Target has been an outstanding addition to our laboratory. Its durability has ensured long-lasting performance, saving us both time and resources.

Thiago Oliveira

4.7

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5

The Hafnium Powder from KINTEK SOLUTION has been instrumental in our groundbreaking research. Its exceptional purity and fine particle size have allowed us to explore new frontiers in materials science.

Stefania Bianchi

4.8

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5

We highly recommend the Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION. Its consistent quality and ease of handling have made it an indispensable tool in our laboratory.

Zuzana Novotna

4.6

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Block is an excellent choice for high-temperature applications. Its exceptional thermal conductivity has enabled us to achieve outstanding results in our research.

Aleksej Ivanov

4.8

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5

The Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION have been a valuable asset to our laboratory. Their uniform size and purity have contributed to the accuracy and reliability of our experiments.

Nurdan Ozdemir

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