実験用資料
高純度ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-GE
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- ゲ
- 純度
- 5N-6N
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.
当社では、実験用に手頃な価格のゲルマニウム (Ge) 材料を提供しています。当社の専門分野は、お客様の特定のニーズを満たすために、さまざまな純度、形状、サイズのゲルマニウム (Ge) 材料をカスタマイズして生産することです。
当社は、さまざまな仕様とサイズのスパッタリング ターゲット (円形、角形、管状、不定形)、コーティング材料、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3D プリンティング粉末、ナノメートル粉末、線材、インゴット、ブロックなどの幅広い選択肢を提供しています。 。
詳細
ゲルマニウム（Ge）について
ゲルマニウムは、合金化剤、蛍光灯の蛍光体、触媒など、さまざまな用途に使用できる多用途半導体です。ゲルマニウムと酸化ゲルマニウムは、その半導体特性に加えて赤外線に対して透明であるため、赤外線分光器や高感度赤外線検出器での使用に最適です。
酸化ゲルマニウムは高い屈折率と分散特性を備えているため、広角カメラのレンズや顕微鏡の対物レンズなどの光学機器で価値があります。ペレット、棒、ワイヤー、顆粒などの金属形状のゲルマニウムは、蒸発源材料として有用です。酸化ゲルマニウムは、光学コーティングや薄膜用途などの用途向けに、粉末や高密度ペレットなどの形態で入手できます。
フッ化物はゲルマニウムの不溶性形態であり、冶金、化学蒸着および物理蒸着、一部の光学コーティングなど、酸素が望ましくない用途に役立ちます。ゲルマニウムは、塩化物、硝酸塩、酢酸塩などの可溶性の形態でも入手可能であり、特定の化学量論で溶液として製造できます。
要約すると、ゲルマニウムは、半導体、光学、冶金などのさまざまな業界で応用できる多用途の材料です。形状と溶解度が異なるため、さまざまな製造プロセスや最終用途に適応できます。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
4.9
out of
5
The Germanium (Ge) sputtering target arrived promptly and was packaged securely. The quality of the target is excellent and has met all of our expectations.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target is a great value for the money. It's durable and has lasted longer than other targets we've used in the past.
4.7
out of
5
The Germanium (Ge) sputtering target from KINTEK SOLUTION is top-notch. It's made with high-quality materials and has performed flawlessly in our lab.
4.6
out of
5
We've been using KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target for a few months now and have been very impressed with its performance. It's consistent and reliable, and we've seen a significant improvement in the quality of our coatings.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target is a game-changer. It's helped us achieve higher deposition rates and better film quality. We're very happy with this product.
4.8
out of
5
We recently switched to KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target and have been very impressed with the results. The target is very durable and has lasted much longer than our previous target. We've also seen a significant improvement in the quality of our coatings.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target is a great choice for anyone looking for a high-quality, durable target. We've been using it for several months now and have been very happy with its performance.
4.6
out of
5
We're very satisfied with KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target. It's well-made and has met all of our expectations. We would definitely recommend this product to others.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target is a top-notch product. It's made with high-quality materials and has performed flawlessly in our lab. We're very happy with this purchase.
4.8
out of
5
We've been using KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target for a few months now and have been very impressed with its performance. It's consistent and reliable, and we've seen a significant improvement in the quality of our coatings.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's Germanium (Ge) sputtering target is a great choice for anyone looking for a high-quality, durable target. We've been using it for several months now and have been very happy with its performance.
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高純度テルル(Te)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質テルル (Te) 材料を手頃な価格で取り揃えています。当社の専門家チームは、お客様固有のニーズに合わせてカスタムのサイズと純度を製造します。スパッタリング ターゲット、パウダー、インゴットなどを購入できます。
高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のタングステン (W) 材料を手頃な価格で見つけてください。カスタマイズされたスパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズを提供します。
赤外線サーマルイメージング/赤外線温度測定両面コートゲルマニウム(Ge)レンズ
ゲルマニウム レンズは、過酷な環境や風雨にさらされる用途に適した耐久性と耐腐食性の光学レンズです。
インジウム(II)セレン化物(InSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室向けに手頃な価格で高品質のインジウム(II)セレン化物材料をお探しですか?弊社のカスタマイズ可能な InSe 製品には、お客様固有のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズが用意されています。さまざまなスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などからお選びいただけます。
高純度セレン(Se)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に手頃な価格のセレン (Se) 材料をお探しですか?当社は、お客様の独自の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズの材料の製造と調整を専門としています。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などの製品ラインナップをご覧ください。
インジウムセレン(In2Se3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせて、さまざまな純度、形状、サイズのセレン化インジウム (In2Se3) 材料を見つけてください。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング、粒子などが手頃な価格で含まれています。今すぐ注文！
高純度インジウム(In)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質インジウム材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門知識は、さまざまな純度、形状、サイズのインジウム材料をカスタマイズして製造することにあります。当社は、お客様の固有の要件に合わせて幅広いインジウム製品を提供しています。リーズナブルな価格で今すぐ注文してください！
シリコン (Si) は、約 1 μm ～ 6 μm の近赤外 (NIR) 範囲での用途に最も耐久性のある鉱物材料および光学材料の 1 つとして広く知られています。
高純度鉄(Fe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に手頃な価格の鉄 (Fe) 材料をお探しですか?当社の製品範囲には、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズされた、さまざまな仕様とサイズのスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などが含まれます。今すぐご連絡ください。
高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のハフニウム (Hf) 材料を手頃な価格で入手できます。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などのさまざまな形状やサイズが見つかります。今すぐ注文。
フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質フッ化カルシウム材料をお探しですか?当社の専門家チームは、お客様の特定のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズを調整します。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などの製品ラインナップをご覧ください。今すぐ見積もりを入手してください。
高純度クロム(Cr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせたクロム材料を手頃な価格で入手できます。当社は、スパッタリング ターゲット、フォイル、パウダーなどを含むカスタムの形状やサイズを製造します。今すぐご連絡ください。
セレン化亜鉛は、亜鉛蒸気と H2Se ガスを合成することによって形成され、グラファイト サセプター上にシート状の堆積物が形成されます。
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用のセレン化亜鉛 (ZnSe) 材料をお探しですか?手頃な価格と専門的にカスタマイズされたオプションにより、当社は完璧な選択肢となります。幅広い仕様とサイズを今すぐチェックしてください。
フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
フッ化ナトリウム (NaF) 材料をお探しですか?当社は、さまざまな純度、形状、サイズのカスタマイズされたソリューションを手頃な価格で提供します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを検索します。今すぐご連絡ください。
高純度酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の酸化アルミニウム材料をお探しですか?当社は、お客様の特定のニーズを満たすためにカスタマイズ可能な形状とサイズを備えた高品質の Al2O3 製品を手頃な価格で提供します。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを検索します。
鉄ガリウム合金(FeGa)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質鉄ガリウム合金 (FeGa) 材料を手頃な価格で見つけてください。お客様独自のニーズに合わせて材料をカスタマイズします。豊富な仕様とサイズをチェックしてください!
高純度酸化ハフニウム(HfO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに応える高品質の酸化ハフニウム (HfO2) 材料を手頃な価格で入手できます。当社のカスタマイズ製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなど、さまざまなサイズや形状があります。
等方性カーボングラファイトは高純度グラファイトからプレス加工されています。ロケットノズル、減速材、グラファイト反応器反射材の製造に最適な材料です。
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化クロム材料をお探しですか?当社の製品には、お客様のニーズに合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどが含まれます。手頃な価格で今すぐ購入してください。
高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のレニウム (Re) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社は、スパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズをカスタマイズして提供します。
CVD ホウ素ドープ ダイヤモンド: エレクトロニクス、光学、センシング、および量子技術の用途に合わせて調整された導電性、光学的透明性、優れた熱特性を可能にする多用途の材料です。
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に、さまざまな純度、形状、サイズの酸化鉄 (Fe3O4) 材料を入手します。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末、線材などが含まれます。今すぐお問い合わせください。
チタンは化学的に安定しており、密度は4.51g/cm3とアルミニウムより高く、鉄、銅、ニッケルより低いですが、比強度は金属中第1位です。
フッ化マグネシウム(MgF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のフッ化マグネシウム (MgF2) 材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門的にカスタマイズされた材料は、お客様の特定の要件を満たすために、さまざまな純度、形状、サイズで提供されます。スパッタリング ターゲット、パウダー、インゴットなどを今すぐ購入しましょう。
二酸化イリジウムの結晶格子はルチル構造です。二酸化イリジウムやその他の希少金属酸化物は、工業用電気分解用のアノード電極や電気生理学的研究用の微小電極に使用できます。
関連記事
薄膜堆積における蒸着技術とスパッタリング技術の比較研究
薄膜の堆積に使用される最も一般的な 2 つの技術は、蒸着とスパッタリングです。
XRF 分析サンプルの準備を成功させる方法
蛍光 X 線 (XRF) 分析では、サンプルの前処理は分析の品質と効率の両方に大きな影響を与える可能性があるため、重要なステップです。
静水圧プレスプロセスを理解する: 開始から応用まで
静水圧プレスプロセスは 1950 年代半ばに開発され、研究の好奇心から実用的な生産ツールへと着実に成長してきました。多くの業界では、粉末の強化や鋳物の欠陥修復にこの技術を適用しています。このプロセスは、セラミック、金属、複合材料、プラスチック、カーボンなどのさまざまな材料に使用されており、粉末の固化や鋳物の欠陥修復などの業界で広く応用されています。セラミックや耐火物の用途に独自の利点をもたらし、正確な公差に合わせて製品形状を形成できるようになり、コストのかかる機械加工の必要性が軽減されます。
PVDスパッタリングターゲットと熱間静水圧プレス：パート1
高品質のスパッタリングターゲットの製造における熱間静水圧プレスの使用と、PVDスパッタリング技術の応用について解説。