実験用資料
高純度鉄(Fe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-FE
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- 鉄
- 純度
- 3N5
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.
当社は実験室用の鉄 (Fe) 材料を手頃な価格で提供しており、さまざまな純度、形状、サイズなど、お客様の特定のニーズに合わせて材料を調整することに特化しています。当社の製品範囲には、さまざまな仕様とサイズのスパッタリング ターゲット (円形、角形、管状、不規則)、コーティング材料、シリンダー、コーン、粒子、箔、粉末、3D プリンティング粉末、ナノメートル粉末、線材、インゴット、ブロックが含まれます。
詳細
鉄(Fe)について
鉄およびその化合物は、そのユニークな特性によりさまざまな分野で幅広い用途に使用されています。鉄は、その硬さ、歴史的な入手可能性、低コストの理由から、商業目的で最も一般的に使用されている金属です。多くの場合、炭素、ニッケル、その他の元素と合金化されて、鋼やその他の高強度の構造用金属が製造されます。
鉄はガラスやセラミックの主要な着色剤であり、触媒としても使用されます。鉄はその磁気特性により、低品質の磁石の基礎となり、メモリテープや磁気共鳴画像法 (MRI) に使用されます。鉄は、純度 99% ～ 99.999% (ACS グレードから超高純度) の金属や化合物など、さまざまな形で入手できます。
鉄は、ペレット、棒、線、顆粒などの単体または金属の状態で蒸発源としてさまざまな用途に利用されています。鉄ナノ粒子やナノパウダーもございます。酸化物は不溶性の傾向がありますが、光学コーティングや薄膜用途向けに粉末および緻密なペレットの形で入手できます。
フッ化鉄は、冶金、化学蒸着および物理蒸着、および一部の光学コーティングで使用される別の不溶性形態です。鉄は、塩化物、硝酸塩、酢酸塩などの可溶性の形でも入手でき、特定の化学量論で溶液として製造できます。
要約すると、鉄とその化合物は産業に広範な用途を提供し、さまざまな形態と純度で入手できるため、多くの目的に非常に汎用性が高くなります。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
4.9
out of
5
KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target excels in quality and delivers high-performance results. Highly recommended!
4.8
out of
5
Exceptional product! The Iron (Fe) Sputtering Target has enhanced our laboratory's efficiency and precision. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
Impeccable quality and prompt delivery. KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target has revolutionized our research capabilities.
4.9
out of
5
KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target is a game-changer. Its durability and reliability have taken our research to new heights.
4.8
out of
5
Exceptional product! The Iron (Fe) Sputtering Target has enhanced our laboratory's efficiency and precision. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
Impeccable quality and prompt delivery. KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target has revolutionized our research capabilities.
4.9
out of
5
KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target is a game-changer. Its durability and reliability have taken our research to new heights.
4.8
out of
5
Exceptional product! The Iron (Fe) Sputtering Target has enhanced our laboratory's efficiency and precision. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
Impeccable quality and prompt delivery. KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target has revolutionized our research capabilities.
4.9
out of
5
KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target is a game-changer. Its durability and reliability have taken our research to new heights.
4.8
out of
5
Exceptional product! The Iron (Fe) Sputtering Target has enhanced our laboratory's efficiency and precision. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
Impeccable quality and prompt delivery. KINTEK's Iron (Fe) Sputtering Target has revolutionized our research capabilities.
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用に、さまざまな純度、形状、サイズの酸化鉄 (Fe3O4) 材料を入手します。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末、線材などが含まれます。今すぐお問い合わせください。
テルル化鉄(FeTe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のテルル化鉄材料を手頃な価格で入手してください。当社のカスタマイズされたオプションは、さまざまな形状とサイズを使用してお客様の特定の要件に応えます。
鉄ニッケル合金(FeNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた手頃な価格の鉄ニッケル合金材料を見つけてください。当社のFeNi製品には、スパッタリングターゲットからパウダーやインゴットまで、さまざまなサイズと形状があります。今すぐ注文！
高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のハフニウム (Hf) 材料を手頃な価格で入手できます。スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などのさまざまな形状やサイズが見つかります。今すぐ注文。
高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質イリジウム (Ir) 材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門的に製造および調整された材料は、お客様の固有のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズで提供されます。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなどの製品ラインナップをご覧ください。今すぐ見積もりを入手してください。
鉄ガリウム合金(FeGa)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質鉄ガリウム合金 (FeGa) 材料を手頃な価格で見つけてください。お客様独自のニーズに合わせて材料をカスタマイズします。豊富な仕様とサイズをチェックしてください!
高純度インジウム(In)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質インジウム材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門知識は、さまざまな純度、形状、サイズのインジウム材料をカスタマイズして製造することにあります。当社は、お客様の固有の要件に合わせて幅広いインジウム製品を提供しています。リーズナブルな価格で今すぐ注文してください！
高純度アンチモン(Sb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
特定のニーズに合わせてカスタマイズされた高品質のアンチモン (Sb) 材料を入手してください。豊富な形状とサイズをリーズナブルな価格でご提供いたします。当社のスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどをご覧ください。
高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のタングステン (W) 材料を手頃な価格で見つけてください。カスタマイズされたスパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズを提供します。
二酸化イリジウムの結晶格子はルチル構造です。二酸化イリジウムやその他の希少金属酸化物は、工業用電気分解用のアノード電極や電気生理学的研究用の微小電極に使用できます。
高純度コバルト(Co)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
お客様独自のニーズに合わせた、実験室用のコバルト (Co) 材料を手頃な価格で入手できます。当社の製品には、スパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどが含まれます。カスタマイズされたソリューションについては、今すぐお問い合わせください。
高純度チタン(Ti)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質チタン (Ti) 材料を手頃な価格で購入できます。スパッタリング ターゲット、コーティング、パウダーなど、お客様固有のニーズに合わせた幅広い製品を見つけてください。
高純度クロム(Cr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせたクロム材料を手頃な価格で入手できます。当社は、スパッタリング ターゲット、フォイル、パウダーなどを含むカスタムの形状やサイズを製造します。今すぐご連絡ください。
絶縁アルミナ棒はファインセラミックス素材です。アルミナロッドは、優れた電気絶縁特性、高い耐薬品性、低い熱膨張を備えています。
チタン酸リチウム(LiTiO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質のチタン酸リチウム (LiTiO3) 材料を手頃な価格で入手できます。当社のカスタマイズされたソリューションは、スパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などを含む、さまざまな純度、形状、サイズに対応します。今すぐ注文！
当社の高純度シートメタルで実験をさらにレベルアップさせましょう。金、プラチナ、銅、鉄など。電気化学やその他の分野に最適です。
等方性カーボングラファイトは高純度グラファイトからプレス加工されています。ロケットノズル、減速材、グラファイト反応器反射材の製造に最適な材料です。
高純度アルミニウム(Al)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質アルミニウム (Al) 材料を手頃な価格で入手できます。当社は、お客様固有のニーズを満たすために、スパッタリング ターゲット、粉末、フォイル、インゴットなどを含むカスタマイズされたソリューションを提供します。今すぐ注文！
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の酸化クロム材料をお探しですか?当社の製品には、お客様のニーズに合わせてカスタマイズされたスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどが含まれます。手頃な価格で今すぐ購入してください。
関連記事
分光分析のためのサンプル調製における FTIR ペレットプレスの仕組み
FTIR (フーリエ変換赤外) 分光法は、赤外吸収スペクトルに基づいて化合物を特定し、特性評価するための強力な分析手法です。
XRF分析とは何ですか、およびプレスXRFペレットの製造方法
XRF 分析とは何ですか、プレス XRF ペレットの作成方法、XRF サンプル調製プロセスにおけるいくつかの注意事項もあります
冷間静水圧プレス: 概要とその産業用途
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
XRF 分析サンプルの準備を成功させる方法
蛍光 X 線 (XRF) 分析では、サンプルの前処理は分析の品質と効率の両方に大きな影響を与える可能性があるため、重要なステップです。
静水圧プレスが材料の欠陥を除去する仕組み
静水圧プレスは、材料の欠陥を除去するために使用される製造プロセスです。
静水圧プレスプロセスを理解する: 開始から応用まで
静水圧プレスプロセスは 1950 年代半ばに開発され、研究の好奇心から実用的な生産ツールへと着実に成長してきました。多くの業界では、粉末の強化や鋳物の欠陥修復にこの技術を適用しています。このプロセスは、セラミック、金属、複合材料、プラスチック、カーボンなどのさまざまな材料に使用されており、粉末の固化や鋳物の欠陥修復などの業界で広く応用されています。セラミックや耐火物の用途に独自の利点をもたらし、正確な公差に合わせて製品形状を形成できるようになり、コストのかかる機械加工の必要性が軽減されます。
冷間静水圧プレスにおける粉末特性の役割
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。
PVDスパッタリングターゲットと熱間静水圧プレス：パート1
高品質のスパッタリングターゲットの製造における熱間静水圧プレスの使用と、PVDスパッタリング技術の応用について解説。