実験用資料
テルル化鉄(FeTe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-FeTe
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- 女の子
- 純度
- 3n
- よく使用される比率
- Fe:Te=3:2 at%
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
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当社は実験室用にテルル化鉄 (FeTe) 材料を競争力のある価格で提供しています。当社の専門分野は、お客様の特定のニーズを満たすために、さまざまな純度、形状、サイズのテルル化鉄 (FeTe) 材料の製造とカスタマイズにあります。
スパッタリングターゲット（円形、角形、管状、不定形）、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴット、ブロックなど、幅広い仕様・サイズを取り揃えております。とりわけ。
詳細
テルル化鉄（FeTe）について
テルル化鉄(II) (FeTe)。ほとんどの量で広く入手可能な結晶成長製品です。
当社では、標準的な FeTe 材料を提供するだけでなく、お客様の特定のニーズや要件に合わせてカスタマイズしたカスタム材料も製造できます。当社の専門家チームは、お客様のカスタム仕様に従って FeTe 材料を製造することができ、お客様が商業および研究用途に新しい独自技術と独自の組成を活用できるようにします。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
4.7
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5
KinTek's Iron Telluride materials arrived promptly, and their quality is top-notch. Our research team is thrilled.
4.8
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5
The Iron Telluride (FeTe) sputtering target we got from KinTek is worth every penny! Excellent performance and durability!
4.9
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5
KinTek's commitment to quality is evident in their Iron Telluride products. Highly recommended for research and industrial applications.
4.6
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5
KinTek's Iron Telluride materials are game-changers in our lab. Their exceptional purity and consistency make our experiments more reliable.
4.7
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We've been using KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets for months, and they've consistently exceeded our expectations. Highly recommended!
4.8
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KinTek's Iron Telluride materials are a testament to their expertise in materials science. Impeccable quality and prompt delivery.
4.9
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5
KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have revolutionized our thin-film research. Their consistency and reliability are unmatched.
4.7
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5
KinTek's Iron Telluride materials have enabled us to push the boundaries of our research. Their custom-tailored solutions are truly remarkable.
4.8
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5
KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets are the gold standard in our lab. Their superior quality and performance make them an unbeatable choice.
4.9
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KinTek's Iron Telluride materials are a game-changer for our research. Their exceptional purity and consistency have taken our experiments to the next level.
4.6
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KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have transformed our thin-film deposition process. Their durability and reliability are simply outstanding.
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