MPCVD
ラボおよびダイヤモンド成長用のマイクロ波プラズマ化学気相成長MPCVDマシンシステムリアクター
商品番号 : KTMP315
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- マイクロ波出力
- マイクロ波周波数 2450±15MHZ
- 出力
- 1〜10KW連続調整可能
- マイクロ波漏洩
- ≤2MW/cm2
- 出力導波管インターフェース
- WR340、430 FD-340、430標準フランジ付き
- サンプルホルダー
- サンプルテーブルの直径≥70mm、有効使用面積≥64mm
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MPCVDとはマイクロ波プラズマ化学気相成長のことです。炭素ガスとマイクロ波プラズマを使用してラボで高品質のダイヤモンド膜を成長させます。
MPCVDシステム
MPCVDは、真空チャンバー、マイクロ波発生器、ガス供給システムを使用して基板上に薄膜を堆積させるシステムです。2.45 GHzのマイクロ波を生成するマグネトロンまたはクライストロンによって、チャンバー内でプラズマが生成されます。ガス供給システムには、ガス流量を制御するためにsccmで校正されたMFCが装備されています。基板温度はプラズマによって制御され、熱電対で測定されます。プラズマが基板を加熱し、堆積中に温度が監視されます。
用途
MPCVDは、低コストで大型かつ高品質のダイヤモンドを製造する可能性を秘めています。
ダイヤモンドの硬度、剛性、高い熱伝導率、低い熱膨張、放射線耐性、化学的安定性などのユニークな特性は、それを価値ある材料にしています。しかし、天然および合成の高圧・高温ダイヤモンドのコストの高さ、サイズの制限、不純物制御の難しさが、その応用を制限してきました。
MPCVDは、単結晶または多結晶のいずれでもよいダイヤモンド宝石および膜の成長に不可欠な装置です。半導体産業では、大型ダイヤモンド基板やダイヤモンド切削・掘削工具産業向けにダイヤモンド膜の成長が広く利用されています。
ラボで成長させたダイヤモンドのHPHT法と比較して、マイクロ波CVD法は、より低コストで大型ダイヤモンドの成長に有利であり、半導体ダイヤモンド、光学ダイヤモンド成長、および大規模宝飾ダイヤモンド市場にとって理想的なソリューションとなります。
MPCVDの利点
MPCVDは、HFCVDおよびDC-PJ CVDよりも優れた利点を持つダイヤモンド合成方法です。汚染を回避し、複数のガスを扱うことができます。マイクロ波電力の調整がスムーズで温度制御が安定しており、種結晶の損失を防ぎます。MPCVDは、広くて安定したプラズマ領域のため、産業用途で有望視されています。
MPCVDは、HPHTよりも少ないエネルギーでより純粋なダイヤモンドを生成します。また、より大きなダイヤモンドの製造も可能です。
弊社のMPCVDシステムの利点
長年にわたり業界に深く関わってきた結果、多くのお客様から信頼を得て、当社の機器をご利用いただいています。当社のMPCVD機器は40,000時間以上安定稼働しており、卓越した安定性、信頼性、再現性、コスト効率を発揮しています。当社のMPCVDシステムのその他の利点は以下の通りです。
- 3インチ基板成長エリア、最大バッチ負荷45個のダイヤモンド
- 1〜10Kwの調整可能な出力マイクロ波電力で電力消費を削減
- 経験豊富な研究開発チームによる最先端のダイヤモンド成長レシピサポート
- ダイヤモンド成長経験ゼロのチーム向けの専用技術サポートプログラム
蓄積された高度な技術を活用し、MPCVDシステムに複数回のアップグレードと改善を実施した結果、効率が大幅に向上し、装置コストが削減されました。その結果、当社のMPCVD機器は技術的進歩の最先端にあり、競争力のある価格で提供されています。お気軽にお問い合わせください。
作業プロセス
MPCVDマシンは、反応ガス(CH4、H2、Ar、O2、N2など)を特定の圧力下でキャビティに導入しながら、各ガス経路の流量とキャビティ圧力を制御します。気流が安定した後、6KWのソリッドステートマイクロ波発生器がマイクロ波を生成し、導波管を通してキャビティに導入します。
反応ガスはマイクロ波フィールド下でプラズマ状態に変化し、ダイヤモンド基板の上に浮遊するプラズマボールを形成します。プラズマの高温が基板を特定の温度まで加熱します。キャビティ内で発生した余分な熱は、水冷ユニットによって放散されます。
MPCVD単結晶ダイヤモンド成長プロセス中に最適な成長条件を確保するために、電力、ガス源組成、キャビティ圧力などの要因を調整します。さらに、プラズマボールはキャビティ壁に接触しないため、ダイヤモンド成長プロセスは不純物から解放され、ダイヤモンドの品質が向上します。
詳細と部品

マイクロ波システム

反応チャンバー

ガス流量システム

真空およびセンサーシステム
技術仕様
| マイクロ波システム |
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| 反応チャンバー |
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| サンプルホルダー |
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| ガス流量システム |
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| 冷却システム |
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| 温度センサー |
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| 制御システム |
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| オプション機能 |
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警告
オペレーターの安全は最重要課題です。装置の操作には注意してください。引火性ガス、爆発性ガス、有毒ガスを扱う作業は非常に危険です。オペレーターは装置を始動する前に必要な予防措置をすべて講じる必要があります。反応器またはチャンバー内で陽圧を使用して作業するのは危険です。オペレーターは安全手順を厳密に遵守する必要があります。空気反応性材料を使用する場合、特に真空下で作業する場合には、特別な注意を払う必要があります。漏れがあると空気が装置内に引き込まれ、激しい反応が発生する可能性があります。
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FAQ
CVDダイヤモンドマシンとは何ですか?
どのような種類のダイヤモンド成長機械が利用可能ですか?
ラボ グロウン ダイヤモンドの利点は何ですか?
CVDの基本原理は何ですか?
CVD成長機の価格はいくらですか?
CVD法にはどのような種類があるのですか?
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