ポーセレン炉の温度は精密に制御され、通常、オーバーグレーズ・エナメルでは750～950℃、歯科用ポーセレンでは最高1,120℃まで対応します。炉はPIDインテリジェント温度制御システムにより±1℃の精度を保証します。
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温度範囲と制御:ポーセレン炉は用途に応じて様々な温度で運転できるよう設計されています。オーバーグレーズ・エナメルの場合、これらの顔料は高温で変色するため、温度範囲は通常750～950℃です。歯科用途では、セラミック複合材を1,120°Cまで加熱し、温度均一性を± 5°F（2.5°C）に維持して、接着プロセス中の収縮や歪みを防止します。
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温度精度:炉にはPIDインテリジェント温度制御システムが装備されており、±1℃の精度で正確な温度調節が可能です。この精度は、安定した結果とポーセレンの最適な性能を確保するために極めて重要です。
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均一加熱:この炉は、磁器の均一な焼成に不可欠な均一加熱を保証します。これは4ゾーン加熱システムと特殊セラミックファイバー断熱によって実現され、低エネルギー消費で急速な温度上昇を可能にします。
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用途と限界:ポーセレン炉は様々なセラミック用途に万能ですが、長時間の高温 (1550°C) 焼成サイクルと異なる冷却プロセスを必要とするジルコニアの焼結には適していません。これは磁器炉の特殊性と、特定のセラミックプロセスに最適化された設計を浮き彫りにしています。
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メンテナンスと校正:最新の磁器炉は自己校正式に設計されているため、手動校正の必要性が減少しています。しかし、経験豊富な陶芸家による個人的な調整により、それぞれの好みや技法に応じた焼成サイクルの微調整は可能です。
要約すると、ポーセレン炉はポーセレンを焼成するために正確で均一な温度を維持するように設計された高度に専門化された機器であり、歯科用セラミックや上絵付けエナメルなど、さまざまな用途に特化した適応性を備えています。
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