チャンバー炉は精密な温度制御と均一性のために特別に設計された加熱装置の一種で、材料の灰化や熱処理など様々な実験用途に不可欠です。これらの炉はしばしばマッフル炉または箱型炉と呼ばれ、長方形と円筒形の両方があります。
主な特徴と操作
-
温度制御と均一性
-
チャンバー炉にはインテリジェントな調整アルゴリズムが装備され、温度の増減を正確に制御します。これにより、炉室内の温度分布が均一化され、材料加工において安定した結果を得ることができます。発熱体とチャンバー設計
-
炉は要求される温度範囲に応じて異なる発熱体を使用します。例えば、低温炉 (1200℃) では抵抗線が使用され、中温炉 (1400℃) ではシリコンカーボンロッドが使用されます。高温炉 (1700°C および 1800°C) ではシリコンモリブデン棒が使用されます。チャンバー自体は高純度セラミックファイバー製で、温度均一性と清浄度を維持するための空気循環構造を備えています。
-
安全機能：
過昇温、過電流、漏電、発熱体故障時に作動する自動保護・警報装置を装備しており、運転中の安全性を確保します。
用途
-
チャンバー炉は汎用性が高く、材料のアニール、電子部品のリフローはんだ付け、プラスチック封止、熱老化試験など、さまざまなプロセスに使用できます。様々な産業において、材料の機械的強度と耐熱性を高めるために重要な役割を果たします。
-
管状炉との比較チャンバー炉も管状炉も研究室での熱処理に使用されるが、その構造、用途、操作には違いがある：
-
構造：
構造：チャンバー炉は外周に発熱体を配置した箱型で、小部品や大型ワークのバッチ処理に適しています。これに対して管状炉は円筒形で、長尺または粉末試料の連続処理に適しています。
加熱モード
