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赤外分光分析のための様々な試料調製法の概要。

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in situ赤外分光法の原理、試料要件、前処理法の概要。

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本稿では、化学気相成長法（CVD）によるダイヤモンド薄膜の作製方法と成長メカニズムについて解説し、課題と応用の可能性を明らかにする。

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半導体、放熱、先端製造における培養ダイヤモンドの利用について解説。

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CVDダイヤモンドのユニークな特性、その調製方法、様々な分野での応用について解説。

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本稿では、MPCVD単結晶ダイヤモンドの半導体および光学ディスプレイ分野への応用について論じ、その優れた特性と様々な産業への潜在的な影響に焦点を当てる。

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この論文では、マイクロ波プラズマ化学気相成長法（MPCVD法）を用いて大型単結晶ダイヤモンドを作製する際の進歩と課題について述べる。

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建築用ガラスへの真空コーティングの方法と利点について、エネルギー効率、美観、耐久性に焦点を当てながら詳しく紹介。

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マグネトロンスパッタリング技術によって作製された薄膜の接着性に影響を与える主要因を詳細に分析。

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ダイヤモンドライクカーボン（DLC）コーティングの特性と多様な用途について解説。

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マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットの被毒現象、その原因、影響、予防策について解説。

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この記事では、電源の違いがスパッタ膜の形態にどのような影響を与えるかについて、DC、PDC、RF電源に焦点を当てて説明する。

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本稿では、マグネトロンスパッタリングでセラミックターゲットの中心領域が激しくアブレーションする原因と解決策について述べる。

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スパッタフィルム層の剥離強度を評価するための定義、測定方法、影響因子、装置に関する詳細なガイド。

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最適な材料性能を得るためのマグネトロンスパッタリングコーティングにおける膜厚公差を確保する方法について説明する。

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電子ビーム蒸着コーティングの長所と短所、そして産業における様々な用途について詳しく解説。

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交流電力下でのTiN膜成長の難しさを論じ、DCスパッタリングやパルスDCなどの解決策を提案。

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PVDコーティングプロセスの原理、種類、ガスアプリケーション、実用的な使用法について詳しく解説。

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薄膜システムの設計原理、技術的考察、様々な分野での実用的応用を徹底的に探求する。

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マグネトロンスパッタリングでグローが発生するにもかかわらず成膜されない要因を分析。

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装置パラメータ、スパッタリングパワー、ガス圧、磁場構成、基板特性など、マグネトロンスパッタリングにおける薄膜成膜の均一性に影響を与える主な要因について解説。

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用途、材料特性、成膜方法、経済性、基材適合性、安全性に基づいて適切な真空コーティング材料を選択するためのガイドライン。

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マグネトロンスパッタリングでレニウムターゲットが光らない理由を探り、最適化の提案を行う。

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マグネトロンスパッタリングにおけるスパッタリング効果に影響する主なパラメータ（空気圧、電力、ターゲット距離、基板タイプなど）。

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酸化シリコン薄膜のカラーバリエーション、制御方法、実用化を探る。

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マグネトロンスパッタリングによるPZT膜層作製のガイドラインと注意事項。

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フレキシブル素材への蒸発コーティングを成功させ、品質と性能を確保するための重要な要素。

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マグネトロンスパッタリングにおけるバイアス電源の種類と、膜の密着性と密度を向上させるための役割の概要。

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この記事では、薄膜作製におけるDC、MF、RFスパッタリング技術の区別と応用について説明する。

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マグネトロンスパッタリング中にターゲット材料がスパークする理由を説明し、それを防止するためのソリューションを提供。

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