製品 ラボ用消耗品と材料 実験用資料 炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験用資料

炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

商品番号 : LM-SiC

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


化学式
SiC
純度
2N5
ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
ISO & CE icon

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当社は実験室用の炭化ケイ素 (SiC) 材料を競争力のある価格で提供できることをうれしく思います。当社の専門家チームは、さまざまな純度、形状、サイズなど、お客様の特定のニーズを満たす炭化ケイ素 (SiC) 材料の製造とカスタマイズを専門としています。

当社の包括的な品揃えには、さまざまな仕様とサイズのスパッタリング ターゲット (円形、角形、管状、不定形など)、コーティング材料、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3D プリンティング粉末、ナノメートル粉末、線材、インゴット、ブロックが含まれます。 、 もっと。

詳細

炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット
炭化ケイ素(SiC)粒子
炭化ケイ素(SiC)粒子
炭化ケイ素(SiC)粒子
炭化ケイ素(SiC)粒子
炭化ケイ素(SiC)粉末
炭化ケイ素(SiC)粉末

炭化ケイ素(SiC)について

炭化ケイ素 (SiC) は、ケイ素と炭素からなる硬い化合物です。これは半導体であり、希少鉱物モアサナイトとして天然に産出されます。しかし、1893年以降、研磨剤として使用するために粉末や結晶として大量生産されるようになりました。

SiC は、自動車のブレーキ、自動車のクラッチ、防弾チョッキのセラミック プレートなど、高い耐久性が必要とされる用途によく使用されます。化合物の粒子は焼結によって互いに結合し、非常に硬いセラミックを形成することができます。

さらに、炭化ケイ素の大きな単結晶はレーリー法を使用して成長させることができ、合成モアッサナイトとして知られる宝石に切断することができます。 SiC は、発光ダイオード (LED) や初期のラジオの検出器など、高温または高電圧、あるいはその両方で動作する電子デバイスにも使用されています。

製造、自動車、防衛、エレクトロニクス、照明、鉄鋼業界における SiC の数多くの用途。 SiC は、超高純度、高純度、サブミクロン、ナノパウダーなど、さまざまな形態で入手できます。

成分の品質管理

原料組成分析
ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。

非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。
金属組織探傷分析
対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。

金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。
外観・寸法検査
製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。

製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。

従来のスパッタリングターゲットサイズ

準備工程
熱間静水圧プレス、真空溶解など
スパッタリングターゲットの形状
平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
円形スパッタリングターゲットサイズ
直径:25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ:3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。
角型スパッタリングターゲットサイズ
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です

利用可能な金属フォーム

メタルフォームの詳細

当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。

  • 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
  • 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
  • マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
  • マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
  • 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
  • ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
  • その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本

KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 )。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。

包装

当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。

FAQ

エンジニアリングセラミックスとは?

エンジニアリング・セラミックスは、特定の機械的、熱的、電気的、化学的特性を持つように設計された高度なセラミック材料である。過酷な条件下で高い性能を必要とする用途に使用されます。

高純度材料とは何ですか?

高純度材料とは、不純物が含まれず、化学的均一性が高い物質を指します。これらの材料は、不純物がデバイスの性能に大きな影響を与える可能性があるさまざまな産業、特に先端エレクトロニクスの分野で不可欠です。高純度の材料は、化学精製、気相蒸着、ゾーンリファイニングなどのさまざまな方法で得られます。たとえば、電子グレードの単結晶ダイヤモンドの調製では、所望のレベルの純度および均一性を達成するために、高純度の原料ガスと効率的な真空システムが必要です。

RF PECVDとは何ですか?

RF PECVD は高周波プラズマ化学蒸着の略で、減圧化学蒸着の実行中にグロー放電プラズマを使用してプロセスに影響を与えることにより、基板上に多結晶膜を作製するために使用される技術です。 RF PECVD 法は、標準的なシリコン集積回路技術として十分に確立されており、通常は平坦なウェーハが基板として使用されます。この方法は、低コストでの成膜が可能であり、蒸着効率も高いため有利である。材料は、屈折率傾斜フィルムとして、またはそれぞれ異なる特性を持つナノフィルムのスタックとして堆積することもできます。

エンジニアリング・セラミックスの主な種類は?

エンジニアリング・セラミックスの主な種類には、アルミナ(Al₂O₃)、ジルコニア(ZrO₂)、炭化ケイ素(SiC)、窒化ケイ素(Si₃N₄)、窒化ホウ素(BN)などがあります。それぞれの種類は、異なる用途に合わせた独自の特性を持っています。

エンジニアリング・セラミックスの用途は?

エンジニアリング・セラミックスは、航空宇宙、自動車、電子機器、冶金などのさまざまな産業で使用されています。用途には、耐摩耗部品、高温部品、電気絶縁体、ヒートシンクなどがあります。

エンジニアリング・セラミックスは、伝統的なセラミックスとどのように違うのですか?

エンジニアリング・セラミックスは、特定の高性能用途向けに設計されており、優れた機械的強度、耐熱性、化学的安定性を提供します。伝統的なセラミックスは、装飾や家庭用としてより一般的に使用されています。

アルミナセラミックスを使う利点は何ですか?

アルミナセラミックスは、高い硬度と耐摩耗性、優れた電気絶縁性で知られています。また、熱伝導率や化学的安定性にも優れているため、高温用途にも適しています。

ジルコニアセラミックスが特定の用途で好まれるのはなぜですか?

ジルコニア・セラミックスは、その高い強度、靭性、耐熱衝撃性から好まれています。高い応力と温度条件下での耐久性と信頼性が要求される用途によく使用されます。

炭化ケイ素セラミックスが高温用途に適している理由は何ですか?

炭化ケイ素セラミックスは、熱伝導性と高温安定性に優れているため、炉や熱交換器などの高温環境での用途に最適です。

窒化ホウ素セラミックスはエレクトロニクスでどのように使われているのですか?

窒化ホウ素セラミックスは、電気絶縁性と熱伝導性に優れているため、電子機器に使用されています。電子部品からの放熱を助け、過熱を防ぎ、性能を向上させます。

エンジニアリング・セラミックスの製造プロセスとは?

エンジニアリング・セラミックスは通常、焼結、ホット・プレス、化学蒸着などの工程を経て製造されます。これらの工程により、緻密で強度が高く、耐久性のあるセラミック材料が形成されます。

エンジニアリング・セラミックスは、特定の用途向けにカスタマイズできますか?

エンジニアリング・セラミックスは、特定の用途要件に合わせてカスタマイズすることができます。これには、所望の機械的、熱的、または電気的特性を達成するために、形状、サイズ、および材料組成を調整することが含まれます。
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